112 年 國立中山大學電機工程學系碩士班甲組《半導體概論》
第 1 題20 分
An n-channel MOSFET with , , and . When the transistor is biased in the saturation region, the drain current is at and at . Determine the electron mobility and the threshold voltage.
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核心觀念
MOSFET 在飽和區且忽略通道長度調變時,汲極電流遵循平方律:
其中:
- :電子遷移率
- :單位面積氧化層電容
- :臨界電壓
- :通道寬長比
氧化層電容為:
本題利用兩組不同 與 的量測值,先求出 ,再求電子遷移率 。
解題方法
令
則電流式可寫成:
兩組操作點分別為:
將兩式相除並開平方:
計算得:
因此:
整理:
計算電子遷移率
先求氧化層電容。
氧化矽介電常數:
所以:
通道寬長比為:
第 2 題20 分
An n-channel MOSFET with a substrate doping concentration of , a threshold voltage of , and a channel length of . The device is biased at and . Determine the ratio of actual drain current compared to the ideal value.
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核心觀念
本題給定
先求閘極過驅電壓:
長通道 n-channel MOSFET 進入飽和區的條件為
而本題
因此元件工作於飽和區。
理想長通道 MOSFET 的飽和電流為
其中 、 與 雖未給定,但在計算「實際值與理想值的比值」時,若未指定任何非理想效應,兩者採用相同的理想模型,這些參數會相互消去。
解題方法
題目沒有提供下列非理想模型所需的參數:
- 通道長度調變參數
- 載子速度飽和速度
- 臨界電場
- 載子遷移率退化模型
- 源極/汲極串聯電阻
因此無法由 、、、、 唯一決定一個包含短通道效應的「實際電流」。
依題目已提供的資訊,採用標準理想 MOSFET 模型:
第 3 題20 分
A Si p-n junction at with diffusion coefficients , , doping concentrations , and excess minority carrier lifetimes . Assume the diode is reverse biased at . Determine the relative magnitudes of the ideal reverse-saturation current density and the generation current density.
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核心觀念
本題比較反向偏壓下兩種電流密度:
- 理想反向飽和電流密度 :由耗盡區兩側的少數載子擴散所造成。
- 產生電流密度 :由耗盡區內的熱產生載子所造成。
理想二極體的反向飽和電流密度為
其中少數載子擴散長度為
耗盡區內的產生電流密度近似為
其中 為耗盡區寬度。本題因 ,取 。
以下採用矽在 時的本質載子濃度
一、計算理想反向飽和電流密度
首先求少數載子擴散長度:
因為 ,所以
計算括號內各項:
因此
二、計算反向偏壓下的耗盡區寬度
耗盡區寬度為
矽的介電常數取
內建電位為
第 4 題20 分
The metallurgical base width if a Si npn bipolar transistor is . The base and collector doping concentrations are and . Determine the punch-through voltage.
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核心觀念
本題考查 雙極性電晶體的「穿通(punch-through)」現象。當基極—集極接面因反向偏壓形成的空乏區,向基極側延伸至整個基極寬度時,集極電場會貫穿基極,產生穿通。
在突變 - 接面中,空乏區兩側必須滿足電荷中性:
其中:
- :空乏區向基極側延伸的寬度
- :空乏區向集極側延伸的寬度
- 、:基極與集極摻雜濃度
穿通臨界條件為:
其中 為冶金基極寬度。
解題方法
已知:
先將基極寬度換算成公分:
由電荷中性條件:
因此:
由突變接面的電位降公式:
穿通時 ,且 ,故:
整理得:
取:
第 5 題20 分
A Si PIN diode with an intrinsic region width of . Assume that the photon flux is and the absorption coefficient is . Calculate the photocurrent density.
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此題考驗對 PIN 光電二極體(PIN photodiode)光電流的計算。PIN 二極體中的本徵區 (intrinsic region) 具有寬大的空間電荷區,能有效吸收光子並產生電子-電洞對,進而產生光電流。
核心觀念:
光電流 () 是由光子吸收產生的電子-電洞對被內建電場分離所形成的電流。在 PIN 二極體中,光子主要被寬廣的本徵區吸收。
計算步驟:
-
計算光子吸收率:
光子的吸收率是指在光通過一定厚度後,有多少比例的光子被吸收。這由吸收係數 和材料厚度 決定。
假設入射光強度為 (在此題目中,給的是光子通量,我們將其視為光強度的一個指標)。
在穿過厚度 後,剩餘的光強度 為:
被吸收的光子數密度(每單位體積每單位時間)與光強度成正比。
或者,我們可以計算在厚度 內,每單位體積每單位時間產生的電子-電洞對的數率。
如果光子通量為 (photons/cm²/s),則在厚度 內,每單位體積每單位時間產生電子-電洞對的數率 為:
其中 是從光入射面開始的深度。
題目給的是總光子通量 。
吸收係數 。
本徵區寬度 。在 PIN 二極體中,通常假設光子在整個本徵區內都被吸收,或者至少吸收效率很高。
如果 ,則幾乎所有光子都在厚度 內被吸收。
。
。
這表示只有約 13.5% 的光子在厚度 內被吸收。正確的計算應考慮光子的衰減。
在深度 處,光強度為 。
在深度 處,每單位體積每單位時間產生電子-電洞對的數率為 。
總的每單位體積每單位時間產生的電子-電洞對數率 是在整個本徵區寬度 上的積分:
這個 是單位體積的產生率。
但是,我們需要的是總的產生率,而不是單位體積的。
光子通量 是每單位面積的光子數。
因此,在整個本徵區的橫截面積 A 內,每單位時間進入的光子數是 。
在厚度 內,被吸收的光子數率(每單位時間)是:
每個被吸收的光子產生一個電子-電洞對。
所以,總的產生電子-電洞對的數率(每秒)是 。光電流密度 是總光電流 除以橫截面積 A。
(其中 q 是電子電荷)。
這裡 是光子通量。代入數值:
另一種常見的簡化假設:
如果 (即 遠大於 1),則 ,此時 。
這種情況下,。
但是,在我們的例子中,,這不算非常大,所以 的值不能忽略。檢查題目中的「photon flux」:
通常光強度 的單位是 。光子通量 的單位是 。