112 年 國立中山大學電機工程學系碩士班甲組《半導體概論》

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第 1 題20 分

An n-channel MOSFET with W=6 µmW = 6 \text{ µm}, L=1.5 µmL = 1.5 \text{ µm}, and tox=80 A˚t_{ox} = 80 \text{ Å}. When the transistor is biased in the saturation region, the drain current is ID=0.132 mAI_D = 0.132 \text{ mA} at VGS=1.0 VV_{GS} = 1.0 \text{ V} and ID=0.295 mAI_D = 0.295 \text{ mA} at VGS=1.25 VV_{GS} = 1.25 \text{ V}. Determine the electron mobility and the threshold voltage.

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核心觀念

MOSFET 在飽和區且忽略通道長度調變時,汲極電流遵循平方律:

ID=12μnCoxWL(VGS−VT)2I_D=\frac{1}{2}\mu_n C_{ox}\frac{W}{L}(V_{GS}-V_T)^2

其中:

  • μn\mu_n:電子遷移率
  • CoxC_{ox}:單位面積氧化層電容
  • VTV_T:臨界電壓
  • W/LW/L:通道寬長比

氧化層電容為:

Cox=εoxtoxC_{ox}=\frac{\varepsilon_{ox}}{t_{ox}}

本題利用兩組不同 VGSV_{GS} 與 IDI_D 的量測值,先求出 VTV_T,再求電子遷移率 μn\mu_n。

解題方法

令

K=12μnCoxWLK=\frac{1}{2}\mu_n C_{ox}\frac{W}{L}

則電流式可寫成:

ID=K(VGS−VT)2I_D=K(V_{GS}-V_T)^2

兩組操作點分別為:

0.132=K(1.0−VT)20.132=K(1.0-V_T)^2 0.295=K(1.25−VT)20.295=K(1.25-V_T)^2

將兩式相除並開平方:

0.2950.132=1.25−VT1.0−VT\sqrt{\frac{0.295}{0.132}} = \frac{1.25-V_T}{1.0-V_T}

計算得:

0.2950.132≈1.4949\sqrt{\frac{0.295}{0.132}}\approx 1.4949

因此:

1.25−VT=1.4949(1.0−VT)1.25-V_T=1.4949(1.0-V_T)

整理:

1.25−VT=1.4949−1.4949VT1.25-V_T=1.4949-1.4949V_T 0.4949VT=0.24490.4949V_T=0.2449 VT≈0.495 VV_T\approx 0.495\text{ V}

計算電子遷移率

先求氧化層電容。

tox=80 A˚=80×10−10 m=8.0×10−9 mt_{ox}=80\text{ Å}=80\times 10^{-10}\text{ m} =8.0\times10^{-9}\text{ m}

氧化矽介電常數:

εox=3.9ε0=3.9(8.854×10−12)≈3.453×10−11 F/m\varepsilon_{ox}=3.9\varepsilon_0 =3.9(8.854\times10^{-12}) \approx3.453\times10^{-11}\text{ F/m}

所以:

Cox=3.453×10−118.0×10−9≈4.317×10−3 F/m2C_{ox} = \frac{3.453\times10^{-11}}{8.0\times10^{-9}} \approx4.317\times10^{-3}\text{ F/m}^2

通道寬長比為:

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第 2 題20 分

An n-channel MOSFET with a substrate doping concentration of NA=2×1016 cm−3N_A = 2 \times 10^{16} \text{ cm}^{-3}, a threshold voltage of VT=0.4 VV_T = 0.4 \text{ V}, and a channel length of L=1 µmL = 1 \text{ µm}. The device is biased at VGS=1 VV_{GS} = 1 \text{ V} and VDS=2.5 VV_{DS} = 2.5 \text{ V}. Determine the ratio of actual drain current compared to the ideal value.

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核心觀念

本題給定

VGS=1 V,VDS=2.5 V,VT=0.4 VV_{GS}=1\text{ V},\qquad V_{DS}=2.5\text{ V},\qquad V_T=0.4\text{ V}

先求閘極過驅電壓:

VOV=VGS−VT=1−0.4=0.6 VV_{OV}=V_{GS}-V_T=1-0.4=0.6\text{ V}

長通道 n-channel MOSFET 進入飽和區的條件為

VDS≥VGS−VT=VOVV_{DS}\ge V_{GS}-V_T=V_{OV}

而本題

2.5 V>0.6 V2.5\text{ V}>0.6\text{ V}

因此元件工作於飽和區。

理想長通道 MOSFET 的飽和電流為

ID,ideal=12μnCoxWL(VGS−VT)2I_{D,\text{ideal}} = \frac{1}{2}\mu_n C_{\text{ox}}\frac{W}{L} (V_{GS}-V_T)^2

其中 WW、μn\mu_n 與 CoxC_{\text{ox}} 雖未給定,但在計算「實際值與理想值的比值」時,若未指定任何非理想效應,兩者採用相同的理想模型,這些參數會相互消去。

解題方法

題目沒有提供下列非理想模型所需的參數:

  • 通道長度調變參數 λ\lambda
  • 載子速度飽和速度 vsatv_{\text{sat}}
  • 臨界電場 EcE_c
  • 載子遷移率退化模型
  • 源極/汲極串聯電阻

因此無法由 NAN_A、VTV_T、LL、VGSV_{GS}、VDSV_{DS} 唯一決定一個包含短通道效應的「實際電流」。

依題目已提供的資訊,採用標準理想 MOSFET 模型:

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第 3 題20 分

A Si p-n junction at T=300 KT = 300 \text{ K} with diffusion coefficients Dn=25 cm2/sD_n = 25 \text{ cm}^2/\text{s}, Dp=10 cm2/sD_p = 10 \text{ cm}^2/\text{s}, doping concentrations NA=ND=1016 cm−3N_A = N_D = 10^{16} \text{ cm}^{-3}, and excess minority carrier lifetimes τn0=τp0=5×10−7 s\tau_{n0} = \tau_{p0} = 5 \times 10^{-7} \text{ s}. Assume the diode is reverse biased at VR=5 VV_R = 5 \text{ V}. Determine the relative magnitudes of the ideal reverse-saturation current density and the generation current density.

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核心觀念

本題比較反向偏壓下兩種電流密度:

  1. 理想反向飽和電流密度 J0J_0:由耗盡區兩側的少數載子擴散所造成。
  2. 產生電流密度 JgenJ_{\mathrm{gen}}:由耗盡區內的熱產生載子所造成。

理想二極體的反向飽和電流密度為

J0=qni2(DnLnNA+DpLpND),J_0 = q n_i^2 \left( \frac{D_n}{L_n N_A} + \frac{D_p}{L_p N_D} \right),

其中少數載子擴散長度為

Ln=Dnτn0,Lp=Dpτp0.L_n=\sqrt{D_n\tau_{n0}}, \qquad L_p=\sqrt{D_p\tau_{p0}}.

耗盡區內的產生電流密度近似為

Jgen=qniWτg,J_{\mathrm{gen}} = \frac{q n_i W}{\tau_g},

其中 WW 為耗盡區寬度。本題因 τn0=τp0\tau_{n0}=\tau_{p0},取 τg=5×10−7 s\tau_g=5\times10^{-7}\ \mathrm{s}。

以下採用矽在 300 K300\ \mathrm{K} 時的本質載子濃度

ni≈1010 cm−3.n_i\approx 10^{10}\ \mathrm{cm}^{-3}.

一、計算理想反向飽和電流密度

首先求少數載子擴散長度:

Ln=Dnτn0=25(5×10−7)=3.54×10−3 cm,L_n = \sqrt{D_n\tau_{n0}} = \sqrt{25(5\times10^{-7})} = 3.54\times10^{-3}\ \mathrm{cm}, Lp=Dpτp0=10(5×10−7)=2.24×10−3 cm.L_p = \sqrt{D_p\tau_{p0}} = \sqrt{10(5\times10^{-7})} = 2.24\times10^{-3}\ \mathrm{cm}.

因為 NA=ND=1016 cm−3N_A=N_D=10^{16}\ \mathrm{cm}^{-3},所以

J0=qni2[25(3.54×10−3)(1016)+10(2.24×10−3)(1016)].J_0 = q n_i^2 \left[ \frac{25}{(3.54\times10^{-3})(10^{16})} + \frac{10}{(2.24\times10^{-3})(10^{16})} \right].

計算括號內各項:

DnLnNA=7.07×10−13 cm/s,\frac{D_n}{L_nN_A} = 7.07\times10^{-13}\ \mathrm{cm/s}, DpLpND=4.47×10−13 cm/s.\frac{D_p}{L_pN_D} = 4.47\times10^{-13}\ \mathrm{cm/s}.

因此

J0=(1.602×10−19)(1020)(7.07+4.47)×10−13,J_0 = (1.602\times10^{-19})(10^{20}) (7.07+4.47)\times10^{-13}, J0≈1.85×10−11 A/cm2.\boxed{ J_0\approx1.85\times10^{-11}\ \mathrm{A/cm^2} }.

二、計算反向偏壓下的耗盡區寬度

耗盡區寬度為

W=2εsq(1NA+1ND)(Vbi+VR).W = \sqrt{ \frac{2\varepsilon_s}{q} \left( \frac{1}{N_A}+\frac{1}{N_D} \right) (V_{\mathrm{bi}}+V_R) }.

矽的介電常數取

εs=11.8ε0≈1.04×10−12 F/cm.\varepsilon_s = 11.8\varepsilon_0 \approx1.04\times10^{-12}\ \mathrm{F/cm}.

內建電位為

Vbi=kTqln⁡(NANDni2).V_{\mathrm{bi}} = \frac{kT}{q} \ln\left(\frac{N_AN_D}{n_i^2}\right).
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第 4 題20 分

The metallurgical base width if a Si npn bipolar transistor is 0.80 µm0.80 \text{ µm}. The base and collector doping concentrations are NB=5×1016 cm−3N_B = 5 \times 10^{16} \text{ cm}^{-3} and NC=2×1015 cm−3N_C = 2 \times 10^{15} \text{ cm}^{-3}. Determine the punch-through voltage.

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核心觀念

本題考查 npnnpn 雙極性電晶體的「穿通(punch-through)」現象。當基極—集極接面因反向偏壓形成的空乏區,向基極側延伸至整個基極寬度時,集極電場會貫穿基極,產生穿通。

在突變 pp-nn 接面中,空乏區兩側必須滿足電荷中性:

NBxB=NCxCN_B x_B=N_C x_C

其中:

  • xBx_B:空乏區向基極側延伸的寬度
  • xCx_C:空乏區向集極側延伸的寬度
  • NBN_B、NCN_C:基極與集極摻雜濃度

穿通臨界條件為:

xB=WBx_B=W_B

其中 WBW_B 為冶金基極寬度。


解題方法

已知:

WB=0.80 μmW_B=0.80\ \mu\text{m} NB=5×1016 cm−3N_B=5\times10^{16}\ \text{cm}^{-3} NC=2×1015 cm−3N_C=2\times10^{15}\ \text{cm}^{-3}

先將基極寬度換算成公分:

WB=0.80×10−4 cm=8.0×10−5 cmW_B=0.80\times10^{-4}\ \text{cm} =8.0\times10^{-5}\ \text{cm}

由電荷中性條件:

NBWB=NCxCN_B W_B=N_C x_C

因此:

xC=NBNCWBx_C=\frac{N_B}{N_C}W_B xC=5×10162×1015(8.0×10−5)=25WBx_C=\frac{5\times10^{16}}{2\times10^{15}} (8.0\times10^{-5}) =25W_B

由突變接面的電位降公式:

V=q2εs(NBxB2+NCxC2)V=\frac{q}{2\varepsilon_s} \left(N_Bx_B^2+N_Cx_C^2\right)

穿通時 xB=WBx_B=W_B,且 xC=(NB/NC)WBx_C=(N_B/N_C)W_B,故:

VPT=q2εs[NBWB2+NC(NBNCWB)2]V_{\text{PT}} = \frac{q}{2\varepsilon_s} \left[ N_BW_B^2+ N_C\left(\frac{N_B}{N_C}W_B\right)^2 \right]

整理得:

VPT=qNBWB22εs(1+NBNC)V_{\text{PT}} = \frac{qN_BW_B^2}{2\varepsilon_s} \left(1+\frac{N_B}{N_C}\right)

取:

q=1.602×10−19 Cq=1.602\times10^{-19}\ \text{C}
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第 5 題20 分

A Si PIN diode with an intrinsic region width of W=20 µmW = 20 \text{ µm}. Assume that the photon flux is 1017 cm−2s−110^{17} \text{ cm}^{-2}\text{s}^{-1} and the absorption coefficient is α=103 cm−1\alpha = 10^{3} \text{ cm}^{-1}. Calculate the photocurrent density.

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這一題的完整詳解

此題考驗對 PIN 光電二極體(PIN photodiode)光電流的計算。PIN 二極體中的本徵區 (intrinsic region) 具有寬大的空間電荷區,能有效吸收光子並產生電子-電洞對,進而產生光電流。

核心觀念:
光電流 (IphI_{ph}) 是由光子吸收產生的電子-電洞對被內建電場分離所形成的電流。在 PIN 二極體中,光子主要被寬廣的本徵區吸收。

計算步驟:

  1. 計算光子吸收率:
    光子的吸收率是指在光通過一定厚度後,有多少比例的光子被吸收。這由吸收係數 α\alpha 和材料厚度 WW 決定。
    假設入射光強度為 I0I_0 (在此題目中,給的是光子通量,我們將其視為光強度的一個指標)。
    在穿過厚度 WW 後,剩餘的光強度 I(W)I(W) 為:
    I(W)=I0e−αWI(W) = I_0 e^{-\alpha W}
    被吸收的光子數密度(每單位體積每單位時間)與光強度成正比。
    或者,我們可以計算在厚度 WW 內,每單位體積每單位時間產生的電子-電洞對的數率。
    如果光子通量為 Φ\Phi (photons/cm²/s),則在厚度 WW 內,每單位體積每單位時間產生電子-電洞對的數率 GG 為:
    G=Φαe−αxG = \Phi \alpha e^{-\alpha x}
    其中 xx 是從光入射面開始的深度。
    題目給的是總光子通量 Φ=1017 cm−2s−1\Phi = 10^{17} \text{ cm}^{-2}\text{s}^{-1}。
    吸收係數 α=103 cm−1\alpha = 10^{3} \text{ cm}^{-1}。
    本徵區寬度 W=20 µm=20×10−4 cm=0.002 cmW = 20 \text{ µm} = 20 \times 10^{-4} \text{ cm} = 0.002 \text{ cm}。

    在 PIN 二極體中,通常假設光子在整個本徵區內都被吸收,或者至少吸收效率很高。
    如果 αW≫1\alpha W \gg 1,則幾乎所有光子都在厚度 WW 內被吸收。
    αW=(103 cm−1)×(0.002 cm)=2\alpha W = (10^3 \text{ cm}^{-1}) \times (0.002 \text{ cm}) = 2。
    e−αW=e−2≈0.135e^{-\alpha W} = e^{-2} \approx 0.135。
    這表示只有約 13.5% 的光子在厚度 WW 內被吸收。

    正確的計算應考慮光子的衰減。
    在深度 xx 處,光強度為 I(x)=Φe−αxI(x) = \Phi e^{-\alpha x}。
    在深度 xx 處,每單位體積每單位時間產生電子-電洞對的數率為 G(x)=αI(x)=αΦe−αxG(x) = \alpha I(x) = \alpha \Phi e^{-\alpha x}。
    總的每單位體積每單位時間產生的電子-電洞對數率 Gtotal_volumeG_{total\_volume} 是在整個本徵區寬度 WW 上的積分:
    Gtotal_volume=∫0WαΦe−αxdx=αΦ[−1αe−αx]0WG_{total\_volume} = \int_0^W \alpha \Phi e^{-\alpha x} dx = \alpha \Phi \left[ -\frac{1}{\alpha} e^{-\alpha x} \right]_0^W
    Gtotal_volume=Φ(−e−αW−(−e0))=Φ(1−e−αW)G_{total\_volume} = \Phi (-e^{-\alpha W} - (-e^0)) = \Phi (1 - e^{-\alpha W})
    這個 Gtotal_volumeG_{total\_volume} 是單位體積的產生率。
    但是,我們需要的是總的產生率,而不是單位體積的。
    光子通量 Φ\Phi 是每單位面積的光子數。
    因此,在整個本徵區的橫截面積 A 內,每單位時間進入的光子數是 Φ×A\Phi \times A。
    在厚度 WW 內,被吸收的光子數率(每單位時間)是:
    Absorbed photons/sec=A∫0WαΦe−αxdx=AΦ(1−e−αW)\text{Absorbed photons/sec} = A \int_0^W \alpha \Phi e^{-\alpha x} dx = A \Phi (1 - e^{-\alpha W})
    每個被吸收的光子產生一個電子-電洞對。
    所以,總的產生電子-電洞對的數率(每秒)是 Ne−h=AΦ(1−e−αW)N_{e-h} = A \Phi (1 - e^{-\alpha W})。

    光電流密度 JphJ_{ph} 是總光電流 IphI_{ph} 除以橫截面積 A。
    Iph=q×Ne−hI_{ph} = q \times N_{e-h} (其中 q 是電子電荷)。
    Jph=IphA=q×AΦ(1−e−αW)A=qΦ(1−e−αW)J_{ph} = \frac{I_{ph}}{A} = \frac{q \times A \Phi (1 - e^{-\alpha W})}{A} = q \Phi (1 - e^{-\alpha W})
    這裡 Φ\Phi 是光子通量。

    代入數值:
    q=1.6×10−19 Cq = 1.6 \times 10^{-19} \text{ C}
    Φ=1017 cm−2s−1\Phi = 10^{17} \text{ cm}^{-2}\text{s}^{-1}
    α=103 cm−1\alpha = 10^{3} \text{ cm}^{-1}
    W=20 µm=0.002 cmW = 20 \text{ µm} = 0.002 \text{ cm}
    αW=103×0.002=2\alpha W = 10^3 \times 0.002 = 2
    e−αW=e−2≈0.1353e^{-\alpha W} = e^{-2} \approx 0.1353
    1−e−αW=1−0.1353=0.86471 - e^{-\alpha W} = 1 - 0.1353 = 0.8647

    Jph=(1.6×10−19 C)×(1017 cm−2s−1)×(0.8647)J_{ph} = (1.6 \times 10^{-19} \text{ C}) \times (10^{17} \text{ cm}^{-2}\text{s}^{-1}) \times (0.8647)
    Jph=1.6×0.8647×10−2 A/cm2J_{ph} = 1.6 \times 0.8647 \times 10^{-2} \text{ A/cm}^2
    Jph=1.3835×10−2 A/cm2=13.835 mA/cm2J_{ph} = 1.3835 \times 10^{-2} \text{ A/cm}^2 = 13.835 \text{ mA/cm}^2

    另一種常見的簡化假設:
    如果 αW≫1\alpha W \gg 1 (即 αW\alpha W 遠大於 1),則 e−αW≈0e^{-\alpha W} \approx 0,此時 1−e−αW≈11 - e^{-\alpha W} \approx 1。
    這種情況下,Jph≈qΦJ_{ph} \approx q \Phi。
    但是,在我們的例子中,αW=2\alpha W = 2,這不算非常大,所以 e−αWe^{-\alpha W} 的值不能忽略。

    檢查題目中的「photon flux」:
    通常光強度 II 的單位是 W/cm2W/cm^2。光子通量 Φ\Phi 的單位是 photons/cm2/sphotons/cm^2/s。

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