108 年 國立中山大學電機工程學系碩士班甲組《半導體概論》
第 1 題
- A doped semiconductor in thermal equilibrium in which the electrostatic potential (with respect to intrinsic silicon) has been measured and found to be as indicated in Fig. 1.
Assume that cm²/V-s and cm²/V-s at 300 K.
(a) Calculate the electron and hole concentrations at x = 0, 5, and 10 µm.
(b) Plot the electric field (with units) vs x for µm.
(c) Calculate the electron drift current density at x = 5 µm.
(d) Calculate the electron diffusion current density at x = 5 µm.
(18%, 3%, 5%, 10%)
🖼️【此處有附圖,請對照原卷】
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核心觀念
本題考查熱平衡半導體中的載子濃度、電場,以及電子的漂移與擴散電流。
令 。以本徵矽的靜電位為參考時,熱平衡載子濃度為
電場與靜電位的關係為
電子漂移電流密度與擴散電流密度分別為
解題方法
採用 、,並取矽的本徵載子濃度 。圖中電位由 ,經過 ,線性下降至 。
(a) 電子與電洞濃度
代入熱平衡公式:
| 電子濃度 | 電洞濃度 | ||
|---|---|---|---|
(b) 電場對位置的關係
電位在 間呈直線,因此
故電場為
作圖時, 對 是一條位於 的水平線。
(c) 的電子漂移電流密度
第 1 題
- A doped semiconductor in thermal equilibrium in which the electrostatic potential (with respect to intrinsic silicon) has been measured and found to be as indicated in Fig. 1.
Assume that cm²/V-s and cm²/V-s at 300 K.
(a) Calculate the electron and hole concentrations at x = 0, 5, and 10 µm.
(b) Plot the electric field (with units) vs x for µm.
(c) Calculate the electron drift current density at x = 5 µm.
(d) Calculate the electron diffusion current density at x = 5 µm.
(18%, 3%, 5%, 10%)
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核心觀念
本題考查熱平衡半導體中的載子濃度、電場,以及電子的漂移與擴散電流。
令 。以本徵矽的靜電位為參考時,熱平衡載子濃度為
電場與靜電位的關係為
電子漂移電流密度與擴散電流密度分別為
解題方法
採用 、,並取矽的本徵載子濃度 。圖中電位由 ,經過 ,線性下降至 。
(a) 電子與電洞濃度
代入熱平衡公式:
| 電子濃度 | 電洞濃度 | ||
|---|---|---|---|
(b) 電場對位置的關係
電位在 間呈直線,因此
故電場為
作圖時, 對 是一條位於 的水平線。
(c) 的電子漂移電流密度
第 2 題
- Consider the following symmetrically doped semiconductor-oxide-semiconductor structure in Fig. 2.
The thickness of the oxide is 100 Å. The depletion regions are shown in the figure. Assuming at 300 K. cm⁻³. Dielectric constants of Si and SiO₂ are 11.9 and 3.9, respectively.
(a) What is the built-in potential for this structure?
(b) What is the thickness of each depletion region?
(c) Sketch the electrostatic potential in equilibrium from one metal contact to the other. Label your sketch. Indicate important potential values.
(d) Sketch the electric field in equilibrium from one metal contact to the other. Label your sketch.
(5%, 10%, 5%, 5%)
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核心觀念
本題考查零外加偏壓下的 p-Si/SiO₂/n-Si 結構:
- p-Si 與 n-Si 的費米能階在熱平衡時必須對齊。
- 由摻雜濃度差形成內建電位。
- p、n 兩側形成耗盡區,耗盡區內的空間電荷造成電位降。
- SiO₂ 中沒有自由電荷,因此電位呈線性變化,且電位移量需連續。
以下採用標準值 。
已知
其中
因此
解題方法
由於 ,兩側耗盡區電荷量大小相等,故
其中 為每一側的耗盡區厚度。
外加電壓為零,因此整個結構的電位差就是內建電位:
兩側對稱,所以
其中 。
耗盡區電荷面密度為
氧化層電位降為
因此
(a) 內建電位
p-n 接面內建電位為
在 時,
所以
因此
(b) 每一側耗盡區厚度
令
代入總電位降公式:
整理得
解二次方程:
得到
因此
各部分電位降為
驗算:
(c) 平衡時的靜電位分布
取左側 p-Si 中性區電位為基準:
各重要位置的電位為:
| 位置 | 電位 |
|---|---|
| 左側金屬與 p-Si 中性區 | |
| p-Si/SiO₂ 界面 |
第 2 題
- Consider the following symmetrically doped semiconductor-oxide-semiconductor structure in Fig. 2.
The thickness of the oxide is 100 Å. The depletion regions are shown in the figure. Assuming at 300 K. cm⁻³. Dielectric constants of Si and SiO₂ are 11.9 and 3.9, respectively.
(a) What is the built-in potential for this structure?
(b) What is the thickness of each depletion region?
(c) Sketch the electrostatic potential in equilibrium from one metal contact to the other. Label your sketch. Indicate important potential values.
(d) Sketch the electric field in equilibrium from one metal contact to the other. Label your sketch.
(5%, 10%, 5%, 5%)
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核心觀念
本題考查零外加偏壓下的 p-Si/SiO₂/n-Si 結構:
- p-Si 與 n-Si 的費米能階在熱平衡時必須對齊。
- 由摻雜濃度差形成內建電位。
- p、n 兩側形成耗盡區,耗盡區內的空間電荷造成電位降。
- SiO₂ 中沒有自由電荷,因此電位呈線性變化,且電位移量需連續。
以下採用標準值 。
已知
其中
因此
解題方法
由於 ,兩側耗盡區電荷量大小相等,故
其中 為每一側的耗盡區厚度。
外加電壓為零,因此整個結構的電位差就是內建電位:
兩側對稱,所以
其中 。
耗盡區電荷面密度為
氧化層電位降為
因此
(a) 內建電位
p-n 接面內建電位為
在 時,
所以
因此
(b) 每一側耗盡區厚度
令
代入總電位降公式:
整理得
解二次方程:
得到
因此
各部分電位降為
驗算:
(c) 平衡時的靜電位分布
取左側 p-Si 中性區電位為基準:
各重要位置的電位為:
| 位置 | 電位 |
|---|---|
| 左側金屬與 p-Si 中性區 | |
| p-Si/SiO₂ 界面 |
第 3 題
- An abrupt p-n junction with donor concentration = and acceptor concentration = . The diode is very long so you can assume the ends are at x = positive and negative infinity. The diode is forward biased.
(a) Given that the excess electron concentration in the p-side during forward bias is:
Derive an expression for the electron current in the p quasi-neutral region in terms of the appropriate parameters including the doping concentration.
(b) Without doing any more derivations, but by symmetry arguments only, provide an expression for the minority carrier current in the n quasi-neutral region.
(c) If there is no recombination or generation in the depletion region, mathematically show that the electron and hole currents must be constant in this region, and obtain these constant values.
(d) Derive the expression for the total current using your results from above.
(10%, 5%, 10%, 5%)
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核心觀念
本題考查長二極體在正向偏壓下的少數載子注入、擴散電流,以及耗盡區內的電流連續性。
所需公式如下:
- 矽半導體在熱平衡下的少數載子濃度
其中:
- :p 型區的平衡少數電子濃度
- :n 型區的平衡少數電洞濃度
- :本質載子濃度
- 中性區內電場近似為零,因此少數載子電流主要是擴散電流:
- 穩態連續方程:
若耗盡區內沒有生成或再結合,則 ,因此電子電流與電洞電流各自保持常數。
座標與符號約定
題目給定的 p 側濃度分布為
此式在 時衰減,因此以下採用:
- p 型準中性區位於
- n 型準中性區位於
- 方向由 p 側指向 n 側
在此座標下,正向電流方向為 ,所以最後的電流密度若以 為正會帶有負號。若只表示正向電流大小,則取其絕對值即可。
令
(a) p 側準中性區的電子電流
p 側的總電子濃度為
由於 為常數,故
將題目給定的 微分:
因此,p 側準中性區的電子擴散電流為
代入得
再利用
可得
在耗盡區 p 側邊界 :
其負號表示電子電流方向為 。若表示電流大小,則為
(b) n 側準中性區的少數載子電流
n 型區的少數載子是電洞。依對稱性,n 側的過量電洞濃度可寫成
因為 n 側位於 ,當 時,過量電洞濃度衰減至零。
電洞擴散電流為
而
因此
利用
得到
在耗盡區 n 側邊界 :
第 3 題
- An abrupt p-n junction with donor concentration = and acceptor concentration = . The diode is very long so you can assume the ends are at x = positive and negative infinity. The diode is forward biased.
(a) Given that the excess electron concentration in the p-side during forward bias is:
Derive an expression for the electron current in the p quasi-neutral region in terms of the appropriate parameters including the doping concentration.
(b) Without doing any more derivations, but by symmetry arguments only, provide an expression for the minority carrier current in the n quasi-neutral region.
(c) If there is no recombination or generation in the depletion region, mathematically show that the electron and hole currents must be constant in this region, and obtain these constant values.
(d) Derive the expression for the total current using your results from above.
(10%, 5%, 10%, 5%)
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核心觀念
本題考查長二極體在正向偏壓下的少數載子注入、擴散電流,以及耗盡區內的電流連續性。
所需公式如下:
- 矽半導體在熱平衡下的少數載子濃度
其中:
- :p 型區的平衡少數電子濃度
- :n 型區的平衡少數電洞濃度
- :本質載子濃度
- 中性區內電場近似為零,因此少數載子電流主要是擴散電流:
- 穩態連續方程:
若耗盡區內沒有生成或再結合,則 ,因此電子電流與電洞電流各自保持常數。
座標與符號約定
題目給定的 p 側濃度分布為
此式在 時衰減,因此以下採用:
- p 型準中性區位於
- n 型準中性區位於
- 方向由 p 側指向 n 側
在此座標下,正向電流方向為 ,所以最後的電流密度若以 為正會帶有負號。若只表示正向電流大小,則取其絕對值即可。
令
(a) p 側準中性區的電子電流
p 側的總電子濃度為
由於 為常數,故
將題目給定的 微分:
因此,p 側準中性區的電子擴散電流為
代入得
再利用
可得
在耗盡區 p 側邊界 :
其負號表示電子電流方向為 。若表示電流大小,則為
(b) n 側準中性區的少數載子電流
n 型區的少數載子是電洞。依對稱性,n 側的過量電洞濃度可寫成
因為 n 側位於 ,當 時,過量電洞濃度衰減至零。
電洞擴散電流為
而
因此
利用
得到
在耗盡區 n 側邊界 :
第 4 題
- The phonon-limited mobility increases with decreasing temperature roughly as . If cm²/V-s for a 1 µm long Si sample at 300 K.
(a) Calculate the drift velocity of electrons in Si at T = 90 K for a field of V/cm.
(b) Calculate the transit time of the carrier if we applied voltage of 3 V at 550 K.
(3%, 6%)
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此題主要考察半導體載子遷移率與溫度的關係,以及漂移速度和載子穿越時間的計算。
核心觀念:
- 聲子限制遷移率 (Phonon-limited Mobility):在較高溫度下,載子散射的主要機制是聲子散射,其遷移率與溫度大約成反比關係,如 ,其中 m 通常為 3/2。
- 漂移速度 (Drift Velocity):載子在電場作用下的平均運動速度,與遷移率和電場成正比:。
- 載子穿越時間 (Transit Time):載子在給定長度上運動所需的時間,與長度、電壓和遷移率有關。
已知條件:
- 聲子限制遷移率 。
- 在 300 K 時, cm²/V-s。
- 樣品長度 µm cm。
- 樣品材料為矽 (Si)。
解題步驟:
(a) 計算 90 K 時的電子漂移速度
首先,我們需要確定 90 K 時的電子遷移率 。
已知 。
將 K 代入:
cm²/V-s。
現在,計算在 V/cm 電場下的漂移速度 。
cm/s。
將結果轉換為更常見的單位,如 cm/µs 或 m/s。
cm/s km/s。
或者 m/s。
或者 cm/µs? (單位換算錯誤)
m/s。
µs s。
cm/s。
m/s。
µm/ns = cm / s = cm/s。
µm/ns。
【答案】
漂移速度 cm/s (或 µm/ns)。
(b) 計算 550 K 時施加 3 V 電壓的穿越時間