112 年 國立成功大學化學研究所《分析化學》
第 1 題
以 溶液滴定來計算 0.4352 克的礦物中含錫 (Sn) 重量百分比。
(A) 將 0.2552 克的 (294.185 g/mol) 溶於去離子水中,最終溶液體積為 50.0 毫升 (mL),計算所配製之 溶液之莫爾濃度 (molarity),以正確有效數字及誤差範圍作答。
(B) 滴定終點體積為 29.8 毫升,寫出平衡滴定反應式並計算錫含量百分比,以正確有效數字及誤差範圍作答。(原子量: Sn=118.71)
(C) 何者對錫含量百分比的誤差影響最大? 秤重、配製滴定液試劑秤重、溶劑體積、或滴定終點溶液體積?
登入後即可作答並保存紀錄。
核心觀念
本題考查酸性介質中的氧化還原滴定:
- 由溶質質量、摩爾質量與溶液體積計算滴定液莫爾濃度。
- 利用重鉻酸根與二價錫的電子轉移比例,建立滴定計量關係。
- 由滴定液體積求出礦物中錫的質量,再換算成重量百分比。
- 比較各測量量的相對誤差,判斷其對結果的影響。
重鉻酸根在酸性溶液中接受電子:
二價錫被氧化為四價錫:
因此, mol 可氧化 mol 。
(A) 計算 溶液濃度
解題方法
莫爾濃度定義為:
其中:
已知:
- 質量: g
- 摩爾質量: g/mol
- 溶液體積: mL L
先計算重鉻酸鉀莫耳數:
因此濃度為:
依有效數字,體積 mL 只有三位有效數字,因此:
誤差範圍
若以最後一位有效數字的一半作為估計誤差:
- 質量相對誤差:
- 體積相對誤差:
保守估計總相對誤差:
濃度的絕對誤差約為:
故可表示為:
若依題目要求保留三位有效數字,則寫作:
(B) 滴定反應與錫含量
1. 配平滴定反應式
錫的氧化半反應為:
重鉻酸根的還原半反應為:
將錫半反應乘以 ,使電子數相同:
相加後得到淨離子反應式:
因此計量關係為:
2. 計算重鉻酸根莫耳數
滴定終點體積為:
使用未四捨五入的濃度進行計算:
3. 計算錫的莫耳數
由反應比例:
因此:
第 2 題
某生以天平秤得一未知物四次平均重量 1.0425 g,標準偏差 0.223 g。
(A) (5分) 平均重量在 95% 信心度的正確之有效數字及系統誤差 (systematic error) 為何?
(B) (5分) 平均重量的 RSD 為何?
(C) (8分) 若要將 RSD 降至 20% 以下,最少需做幾次的重複實驗 (95% 信心度)?
Values of t for Various Levels of Probability
Degrees of
Freedom
80%
90%
95%
99%
99.9%
1
3.08
6.31
12.7
63.7
637
2
1.89
2.92
4.30
9.92
31.6
3
1.64
2.35
3.18
5.84
12.9
4
1.53
2.13
2.78
4.60
8.61
5
1.48
2.02
2.57
4.03
6.87
6
1.44
1.94
2.45
3.71
5.96
7
1.42
1.90
2.36
3.50
5.41
8
1.40
1.86
2.31
3.36
5.04
9
1.38
1.83
2.26
3.25
4.78
10
1.37
1.81
2.23
3.17
4.59
登入後即可作答並保存紀錄。
核心觀念
- 信賴區間 (Confidence Interval, CI):
- 估計平均值 的 95 % 信賴區間:
其中 為自由度 時的 t 值, 為樣本標準差, 為重複次數。
- 估計平均值 的 95 % 信賴區間:
- 有效數字 (Significant Figures):
- 有效數字的位數受測量不確定度 (uncertainty) 的位數限制。
- 若不確定度的第一位在 位,則只有該位及其以上的數字是可靠的。
- 系統誤差 (Systematic Error):
- 系統誤差是測量結果與真值之間的恆定偏差。若無外在校正資訊,常以「零」假設。
- 相對標準偏差 (Relative Standard Deviation, RSD):
- 樣本數需求:
- 要使 RSD 在給定信心水平下低於某值,必須滿足
- 要使 RSD 在給定信心水平下低於某值,必須滿足
解題方法與計算過程
(A) 95 % 信心度的有效數字與系統誤差
- 已知:、、。
- 由題目提供的 t 表查得 。
- 標準誤差 (standard error, SE):
- 95 % 信賴區間半寬:
- 以「測量值 ± 不確定度」表示:
- 有效數字:不確定度的第一位在 0.1 g 位,故只有千分位以上的數字可靠,寫成
有效數字為 2 位()。
第 3 題
回答以下有關 UV 與 IR 分析光譜儀問題:
(A) (6分) 主要雜訊種類各為何?
(B) (6分) 其各主要雜訊來源為光譜儀的哪項零件 (光源、偵測器、濾片、偵測核, et al.)?
(C) (8分) 何種雜訊較適合以 FT 方式來降低?
登入後即可作答並保存紀錄。
本題主要考驗對 UV-Vis 和 IR 光譜儀的雜訊來源、雜訊種類及其對應的儀器組件的理解,以及傅立葉轉換 (FT) 光譜技術在雜訊抑制方面的優勢。
核心觀念: 光譜儀的雜訊會影響測量的準確性,了解雜訊的來源和種類有助於判斷數據品質和選擇合適的分析方法。
(A) 主要雜訊種類
UV-Vis 和 IR 光譜儀的雜訊主要可以分為以下幾類:
- 熱雜訊 (Thermal Noise / Johnson Noise): 這是由於電子元件(特別是偵測器和放大器)的溫度升高而引起的隨機電壓漲落。
- 散粒雜訊 (Shot Noise): 這是由於光子或載流子(電子、電洞)的隨機到達或產生而引起。在光譜儀中,這與偵測器接收到的光子數量的隨機性有關。
- 閃爍雜訊 (Flicker Noise / 1/f Noise): 這種雜訊的強度與頻率成反比(低頻雜訊),通常與材料缺陷、表面效應或電子元件的不穩定性有關。
- 光源雜訊 (Source Noise): 光源的輸出強度可能會有隨機的波動,這也會被偵測器接收到並被視為雜訊。
- 環境雜訊 (Environmental Noise): 包括來自外部的電磁干擾 (EMI)、振動、溫度波動等。
(B) 主要雜訊來源的儀器零件
- 熱雜訊 (Thermal Noise): 主要來自 偵測器 (如光電管、光電倍增管、熱敏電阻、熱電堆、PB/HgCdTe 等) 和 電子放大電路。
- 散粒雜訊 (Shot Noise): 主要與 偵測器 的光電轉換過程有關,即偵測器接收到的光子數量的隨機性。
- 閃爍雜訊 (Flicker Noise): 通常也與 偵測器、電子元件 (如電阻、半導體元件) 的不穩定性有關。
- 光源雜訊 (Source Noise): 主要來自 光源 本身 (如氘燈、鎢燈、紅外線燈絲的強度波動)。
第 4 題
回答下列有關極譜分析法的問題:
(A) (6分) 為何溶液的攪拌要避免?
(B) (6分) 在極譜分析時,標準添加法 (method of standard additions),與標準溶液檢量線法 (method of standard solutions) 相較,為何前者被認為會產生較可靠的結果?
(C) (7分) 為何滴汞電極 (dropping mercury electrode) 的水銀的管柱高度會對擴散電流 (current of diffusion) 的大小有影響?
登入後即可作答並保存紀錄。
本題主要考驗對極譜分析法 (Polarography) 的基本原理、實驗操作注意事項、標準曲線的建立方法及其優缺點,以及滴汞電極 (DME) 的特性。
核心觀念: 極譜分析是一種電化學分析技術,利用滴汞電極在不同電壓下的電流響應來測定溶液中待測物的濃度。
(A) 為何溶液的攪拌要避免?
在極譜分析中,溶液的攪拌應當避免,主要原因如下:
- 維持擴散控制 (Diffusion Control): 極譜分析的電流強度(特別是擴散電流)與待測物從溶液本體擴散到電極表面的速率有關。如果溶液被攪拌,會產生對流 (convection),這會顯著增加待測物到達電極表面的速率,不再是單純的擴散控制。這會導致電流值與待測物濃度之間的線性關係被破壞,使得定量分析變得困難或不準確。
- 避免氣泡產生: 攪拌可能會將空氣中的氧氣帶入溶液,氧氣在極譜電位範圍內會被還原,產生一個額外的還原電流峰,這會干擾待測物的信號。同時,攪拌產生的氣泡附著在電極表面也會影響電化學反應的進行。
- 防止電極堵塞: 滴汞電極的汞滴會不斷落下。如果溶液有劇烈流動,可能會導致汞滴的形成不穩定,甚至影響汞滴的脫落,對實驗的重現性造成影響。
因此,在進行極譜分析時,通常會讓溶液靜置,讓待測物通過擴散作用到達滴汞電極表面。
(B) 標準添加法 vs. 標準溶液檢量線法,何者更可靠?
標準添加法 (Method of Standard Additions) 通常被認為比標準溶液檢量線法 (Method of Standard Solutions) 在極譜分析中產生更可靠的結果,原因如下:
- 克服基質效應 (Matrix Effect): 樣品溶液的基質(除了待測物之外的所有成分)可能會對電化學信號產生影響,例如改變溶液的離子強度、黏度、介電常數,或者參與副反應,影響待測物的電極行為。標準溶液通常是在純溶劑或簡單緩衝液中配製的,其基質與複雜的樣品基質差異很大。標準添加法則是在待測樣品溶液中逐步加入已知濃度的標準品,這樣標準品的響應是在與樣品相同的基質條件下測得的,因此能夠更好地補償基質效應。
- 補償電極狀態的變化: 滴汞電極的特性(如汞滴的尺寸、表面張力)會隨著時間而變化。
第 5 題
液相層析質譜被廣泛應用於大分子與小分子分析:
(A) (8分) 最常使用的兩種質譜離子源為何?
(B) (3分) 以上兩種離子源產生的離子所帶電荷差別?
(C) (8分) 以上兩種離子源適用的分子大小及溶劑性質各為何?
登入後即可作答並保存紀錄。
本題考驗液相層析質譜 (LC-MS) 中常用的兩種離子源的原理、特點及應用範圍。
核心觀念: LC-MS 結合了液相層析 (LC) 的分離能力和質譜 (MS) 的靈敏度與特異性。LC 分離後的分析物需要被離子化才能進入質譜儀進行質量分析。
(A) 最常使用的兩種質譜離子源為何?
在液相層析質譜 (LC-MS) 中,最常用且適用於分析大分子和小分子的兩種軟離子化 (soft ionization) 技術是:
- 電噴灑離子化 (Electrospray Ionization, ESI)
- 大氣壓化學離子化 (Atmospheric Pressure Chemical Ionization, APCI)
(B) 以上兩種離子源產生的離子所帶電荷差別?
- 電噴灑離子化 (ESI): ESI 通常產生 多重帶電離子 (multiply charged ions)。這是因為在高壓電場作用下,液體噴出的帶電液滴會通過庫侖排斥力破裂,最終形成帶有較多質子(或奪取質子)的離子。這使得 ESI 能夠有效地離子化大分子,因為大分子的分子量很大,如果只帶單一電荷,其質荷比 (m/z) 會非常高,超出大多數質譜儀的質量範圍。例如,蛋白質可能帶有數十個甚至上百個正電荷或負電荷。
- 大氣壓化學離子化 (APCI): APCI 通常產生 單一帶電離子 (singly charged ions),主要是 [M+H](正離子模式)或 [M-H](負離子模式)。APCI 過程涉及氣相離子-分子反應,其中溶劑分子(如乙腈、甲醇)在電暈放電下被電離,然後與分析物分子發生離子-分子反應,將質子轉移給分析物分子,形成帶單一電荷的離子。
(C) 以上兩種離子源適用的分子大小及溶劑性質各為何?
| 特性 | 電噴灑離子化 (ESI) | 大氣壓化學離子化 (APCI) |
|---|---|---|
| 適用分子大小 | 大分子 (蛋白質、胜肽、核酸、碳水化合物、聚合物等),分子量通常大於 1000 Da,甚至數十萬 Da。也可分析小分子。 |