111 年 國立成功大學綠色應用材料碩士班《基礎材料學》

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第 1 題

  1. Which one of following is the CORRECT Miller indices for the plane B shown in the following unit cell?
    (a) (122)
    (b) (211)
    (c) (111)
    (d) (221)

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核心觀念

Miller 指數 (hkl)(hkl) 是晶面與三個晶軸截距的「倒數」。若晶面截距以晶格常數 a,b,ca,b,c 為單位表示為

(p,q,r),(p,q,r),

則

(hkl)=(1p,1q,1r).(hkl)=\left(\frac{1}{p},\frac{1}{q},\frac{1}{r}\right).

圖中平面 B 的截距為:

  • xx 軸:11
  • yy 軸:12\frac{1}{2}
  • zz 軸:12\frac{1}{2}

解題方法

將三個截距取倒數:

(hkl)=(11,11/2,11/2)=(1,2,2).(hkl)=\left(\frac{1}{1},\frac{1}{1/2},\frac{1}{1/2}\right) =(1,2,2).

因此平面 B 的 Miller 指數為 (122)(122)。

選項分析

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第 2 題

  1. Which of the following is not a creep mechanism?
    (a) Grain growth
    (b) Thermally activated dislocation glide
    (c) Dislocation climb
    (d) Grain boundary sliding.

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本題考查材料在高溫下抵抗變形的能力,即潛變 (creep) 的機制。潛變是指材料在應力作用下,隨時間發生的永久性形變。

潛變機制通常包含以下幾種:

  • Dislocation glide (or climb):位錯的滑移或爬升是潛變的主要機制之一,尤其是在中等溫度範圍。Dislocation glide 指的是位錯沿著滑移面移動,而 dislocation climb 則是指位錯通過空位的產生或湮滅而垂直於滑移面的運動,這在較高溫度下更為重要。
  • Grain boundary sliding (GBS):在高溫和多晶材料中,晶粒邊界上的滑移也是潛變的重要貢獻者,尤其是在較低的應力下。
  • Grain growth:晶粒長大本身並不是一個直接的潛變機制,儘管它可能在潛變過程中發生。
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第 3 題

  1. For the heterogeneous nucleation, which of the following show the highest energy barrier?
    (a) Twins
    (b) screw dislocations
    (c) point defects
    (d) grain corners

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核心觀念

本題考查異質成核(heterogeneous nucleation)中,不同晶體缺陷對成核能障的影響。

均質成核時,形成半徑為 rr 的晶核,其自由能變化可表示為:

ΔG(r)=4πr2γ+43πr3ΔGv\Delta G(r)=4\pi r^2\gamma+\frac{4}{3}\pi r^3\Delta G_v

其中:

  • γ\gamma:晶核與母相之間的界面能;
  • ΔGv\Delta G_v:單位體積的成核自由能變化,低於轉變溫度時通常為負值。

當晶核達到臨界半徑 r∗r^* 時,成核能障為:

ΔGhom∗=16πγ33(ΔGv)2\Delta G^*_{\mathrm{hom}} = \frac{16\pi\gamma^3}{3(\Delta G_v)^2}

異質成核發生在晶界、位錯、空孔等缺陷位置,部分原本需要形成的界面被缺陷表面取代,因此成核能障降低:

ΔGhet∗=f(θ)ΔGhom∗\Delta G^*_{\mathrm{het}} = f(\theta)\Delta G^*_{\mathrm{hom}}

其中 f(θ)f(\theta) 為小於或等於 11 的幾何因子。缺陷越能降低界面能、提供越大的潤濕效果或釋放局部應變能,f(θ)f(\theta) 越小,成核越容易。

因此,本題的判斷重點是:

能提供的成核促進作用越弱者,異質成核能障越高。

解題方法

比較各種缺陷對成核的促進能力:

  1. 是否具有高表面能或高局部自由能?
  2. 是否能釋放晶核形成時的應變能?
  3. 是否能提供多個界面或較大的原子排列自由度?
  4. 缺陷本身與新相之間的界面能是否很低?

晶界角落具有多個晶界交會,能提供較大的結構自由度與空間;位錯和點缺陷則可透過局部應變場、空位與原子重排降低成核所需能量。相較之下,孿晶界通常是排列規整、界面能很低的界面,能提供的額外驅動力最小,因此成核能障最高。

選項分析

(a) Twins

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第 4 題

  1. A tension test is carried out on a steel specimen and the values of load is given by: 11.1, 30.9, 35.8, 40.3, 43.7, 53.1, 63.3, 64.1, 62.1 and 58.7 kN. What is the percentage of theses load values being in the range of 18.1 and 83.7?
    (a) 68%
    (b) 74%
    (c) 95%
    (d) 99.7%.

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核心觀念

本題考查常態分布的「經驗法則」(Empirical Rule):

  • 約 68%68\% 的資料落在平均值 μ±1σ\mu \pm 1\sigma。
  • 約 95%95\% 的資料落在平均值 μ±2σ\mu \pm 2\sigma。
  • 約 99.7%99.7\% 的資料落在平均值 μ±3σ\mu \pm 3\sigma。

題目給定的負載範圍為 18.118.1 至 83.7 kN83.7\ \text{kN}。此區間的中心為

μ=18.1+83.72=50.9 kN\mu=\frac{18.1+83.7}{2}=50.9\ \text{kN}

區間半寬為

83.7−50.9=32.8 kN83.7-50.9=32.8\ \text{kN}

因此題目設定的範圍可視為平均值兩側約兩個標準差:

18.1≤X≤83.7≈μ−2σ≤X≤μ+2σ18.1 \leq X \leq 83.7 \approx \mu-2\sigma \leq X \leq \mu+2\sigma

解題方法

依常態分布經驗法則,落在平均值 ±2σ\pm2\sigma 範圍內的資料比例約為

P(μ−2σ≤X≤μ+2σ)≈95%P(\mu-2\sigma\leq X\leq\mu+2\sigma)\approx95\%

所以負載值落在 18.118.1 至 83.7 kN83.7\ \text{kN} 範圍內的比例為

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第 5 題

  1. Given the atomic weight of 195.08 g/mol for Pt and 63.55 g/mol for Cu, the wt% of Pt in a 3 at% Pt-97 at% Cu alloy will be?
    (a) larger than 3
    (b) equal to 3
    (c) smaller than 3
    (d) cannot determine with the provided information.

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本題考查合金中原子百分比 (atomic percent, at%) 與重量百分比 (weight percent, wt%) 之間的轉換。

已知:

  • Pt 的原子量 (Atomic Weight, AWPt_{Pt}) = 195.08 g/mol
  • Cu 的原子量 (Atomic Weight, AWCu_{Cu}) = 63.55 g/mol
  • 合金組成:3 at% Pt 和 97 at% Cu。

目標:計算 Pt 的重量百分比 (wt% of Pt)。

計算步驟:

  1. 假設合金總原子數為 100 個:

    • Pt 的原子數 = 3
    • Cu 的原子數 = 97
  2. 計算 Pt 和 Cu 的總重量:

    • Pt 的總重量 (massPt_{Pt}) = Pt 的原子數 × Pt 的原子量
      massPt_{Pt} = 3 mol × 195.08 g/mol = 585.24 g
    • Cu 的總重量 (massCu_{Cu}) = Cu 的原子數 × Cu 的原子量
      massCu_{Cu} = 97 mol × 63.55 g/mol = 6164.35 g
  3. 計算合金的總重量:

    • 總重量 (Total Mass) = massPt_{Pt} + massCu_{Cu}
      Total Mass = 585.24 g + 6164.35 g = 6749.59 g
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第 6 題

  1. Temperature and time are the two main parameters to reach the designed carbon concentration at specific position during carburizing heat treatment of steel. To reduce the annealing time by a factor of 10, how much the temperature needs to be adjusted from 1000K. The parameters D₀ and Q for carbon diffusion in iron are 2.3 x 10⁻⁵ m²/s and 148000 J/mol respectively.
    (a) increase by 150 K
    (b) decrease by 150 K
    (c) increase by 300 K
    (d) decrease by 300K.

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本題考查擴散動力學,特別是溫度對擴散係數的影響,以及時間與擴散係數的關係。碳在鋼中的滲碳過程是一個典型的擴散過程。

擴散係數 DD 與絕對溫度 TT 的關係由 Arrhenius 方程式描述:
D=D0exp⁡(−QRT)D = D_0 \exp\left(-\frac{Q}{RT}\right)
其中:

  • DD 是擴散係數 (m²/s)
  • D0D_0 是前指數因子 (pre-exponential factor, m²/s)
  • QQ 是擴散活化能 (activation energy, J/mol)
  • RR 是理想氣體常數 (8.314 J/mol·K)
  • TT 是絕對溫度 (K)

在滲碳過程中,要達到特定的碳濃度分佈,需要一定的時間 tt。對於擴散過程,時間與擴散係數的平方成反比,或者說,擴散的深度與 Dt\sqrt{Dt} 成正比。要達到相同的擴散深度或碳濃度分佈,如果擴散係數 DD 增加,則所需時間 tt 可以相應減少。

題目要求將「退火時間 (annealing time)」減少為原來的 1/10。這裡的「退火時間」實際上是指達到目標滲碳深度或濃度所需的「滲碳時間」。
假設我們需要在時間 t1t_1 在溫度 T1T_1 下達到某個滲碳效果,現在我們希望在時間 t2=t1/10t_2 = t_1 / 10 下達到相同的滲碳效果。

要達到相同的滲碳效果,通常需要相同的擴散距離,即 D1t1=D2t2\sqrt{D_1 t_1} = \sqrt{D_2 t_2}。
將 t2=t1/10t_2 = t_1 / 10 代入:
D1t1=D2(t1/10)\sqrt{D_1 t_1} = \sqrt{D_2 (t_1 / 10)}
平方兩邊:
D1t1=D2(t1/10)D_1 t_1 = D_2 (t_1 / 10)
D1=D2/10D_1 = D_2 / 10
D2=10D1D_2 = 10 D_1

這表示新的擴散係數 D2D_2 必須是原來擴散係數 D1D_1 的 10 倍,才能在 1/10 的時間內達到相同的滲碳效果。

我們有:

  • 初始溫度 T1=1000T_1 = 1000 K
  • D0=2.3×10−5D_0 = 2.3 \times 10^{-5} m²/s
  • Q=148000Q = 148000 J/mol
  • R=8.314R = 8.314 J/mol·K
  • 要求 D2=10D1D_2 = 10 D_1

首先計算初始溫度 T1=1000T_1 = 1000 K 時的擴散係數 D1D_1:
D1=D0exp⁡(−QRT1)D_1 = D_0 \exp\left(-\frac{Q}{RT_1}\right)
D1=2.3×10−5exp⁡(−1480008.314×1000)D_1 = 2.3 \times 10^{-5} \exp\left(-\frac{148000}{8.314 \times 1000}\right)
D1=2.3×10−5exp⁡(−1488.314)D_1 = 2.3 \times 10^{-5} \exp\left(-\frac{148}{8.314}\right)
D1=2.3×10−5exp⁡(−17.801)D_1 = 2.3 \times 10^{-5} \exp(-17.801)
D1≈2.3×10−5×1.64×10−8≈3.77×10−13 m²/sD_1 \approx 2.3 \times 10^{-5} \times 1.64 \times 10^{-8} \approx 3.77 \times 10^{-13} \text{ m²/s}

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第 7 題

  1. In FCC crystals, it is much easier for the dynamic recovery to occur for a crystal
    (a) with small stacking fault energy
    (b) with dislocations that are easier to do cross-slip
    (c) with high surface energy
    (d) with small dislocation density.

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核心觀念

本題考查 FCC 晶體中的**動態回復(dynamic recovery)**及其影響因素。

塑性變形後,晶體內累積大量位錯與應變能。動態回復是在高溫變形過程中,透過下列機制降低位錯密度與內部應變能:

  • 異號位錯相互抵消。
  • 位錯重新排列,形成較穩定的位錯結構。
  • 位錯攀移(climb)。
  • 螺旋位錯交滑移(cross-slip)。

FCC 金屬的動態回復特別依賴螺旋位錯的交滑移能力。堆疊錯能(stacking fault energy, SFE)越高,位錯越容易交滑移,動態回復越容易進行。

解題方法

判斷各選項是否能促進動態回復,核心在於確認該因素是否能提高位錯的交滑移、攀移或抵消速率。

在 FCC 晶體中,完美位錯常分解為兩個 Shockley 部分位錯,中間由堆疊錯連接。其部分位錯間距可概念性表示為:

d∝1γSFd \propto \frac{1}{\gamma_{\mathrm{SF}}}

其中 dd 為部分位錯間距,γSF\gamma_{\mathrm{SF}} 為堆疊錯能。

堆疊錯能較高時,部分位錯間距較小,位錯分解程度較低,螺旋位錯較容易重新合併並進行交滑移。因此,高堆疊錯能 FCC 金屬通常具有較快的動態回復,例如鋁、鎳等。

所以,最直接的判斷標準是:

是否有利於螺旋位錯交滑移?若有,則有利於 FCC 晶體的動態回復。

選項分析

(a)with small stacking fault energy

堆疊錯能小時,部分位錯之間的距離較大,位錯分解程度較強。兩個部分位錯不易重新合併,螺旋位錯也較難轉移至另一組滑移面進行交滑移。

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第 8 題

  1. Which one of following substances is NOT bounded by metallic bonding?
    (a) Li
    (b) Si
    (c) Hg
    (d) Fe.

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本題考查金屬鍵的特性,以及不同元素和化合物的化學鍵類型。

金屬鍵 (metallic bonding) 是在金屬固體中,金屬原子通過共享它們的價電子形成的。這種鍵合的特點是價電子高度離域化,形成「電子海」,而金屬陽離子則排列在電子海中。金屬鍵通常出現在元素週期表中左側的金屬元素中。

我們來分析各個選項:
(a) Li (鋰):鋰是鹼金屬,屬於非常活潑的金屬。它具有典型的金屬鍵。

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第 9 題

  1. Which of following does not correlate with theoretical density of a metallic solid?
    (a) atomic weight
    (b) Avogadro's number
    (c) volume of the unit cell
    (d) molecule weight.

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本題考查金屬固體理論密度 (theoretical density) 的計算及其相關因素。

理論密度的計算公式為:
ρ=nAVCNA\rho = \frac{nA}{V_C N_A}
其中:

  • ρ\rho 是理論密度 (g/cm³ 或 kg/m³)
  • nn 是每個晶胞中的原子數 (number of atoms per unit cell)
  • AA 是原子量 (atomic weight, g/mol)
  • VCV_C 是晶胞的體積 (volume of the unit cell, cm³/cell 或 m³/cell)
  • NAN_A 是亞佛加厥數 (Avogadro's number, atoms/mol 或 molecules/mol)

現在我們分析各個選項與此公式的關聯性:

(a) atomic weight (原子量, A):原子量直接出現在密度公式的分子中,所以它與理論密度相關。原子量越大,在其他條件相同的情況下,密度越大。

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第 10 題

  1. For a solid, when the periodic and repeated arrangement of atoms is perfect or extends throughout the entirely of the specimen without interruption. This kind of solid is
    (a) paracrystalline
    (b) polycrystalline
    (c) single crystalline
    (d) noncrystalline.

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本題考查固體結構的分類,特別是關於原子排列的規則性。

  • 晶體 (Crystalline solid):指原子、離子或分子在三維空間中呈現出長程有序的週期性排列。這種排列是重複且規則的。
    • 單晶 (Single crystal):整個樣品都由一個連續的、無中斷的晶格構成。原子排列在整個樣品中都是完美有序的。
    • 多晶 (Polycrystalline solid):由許多稱為晶粒 (grains) 的小晶體組成,每個晶粒內部都是單晶,但不同晶粒的晶格取向不同。晶粒之間由晶界 (grain boundaries) 分隔。在多晶體中,原子排列在每個晶粒內部是週期性的,但整體上不是一個單一的、連續的長程有序結構。
  • 非晶體 (Amorphous solid) 或 無定形固體 (Noncrystalline solid):原子、離子或分子的排列沒有長程有序性,只有近程有序性。它們的排列是隨機的。
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第 11 題

Viscoelastic materials exhibit both viscous and elastic characteristics when undergoing deformation. Which of the following figures is the typical strain-time curve of viscoelastic materials when a square load-time cycle is applied?

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原卷第 3 頁

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核心觀念

黏彈性材料同時具有彈性與黏性。受力時,彈性部分會立即變形,黏性部分則使應變隨時間逐漸增加,稱為潛變;卸載時,應變會先立即回復一部分,再隨時間逐漸回復。

解題方法

原卷圖中,右上方的負載—時間圖是方形負載循環:先施加定值負載,再卸載。四個選項的縱軸都是應變、橫軸都是時間。符合黏彈性特徵的曲線,應在負載期間逐漸變形,卸載時先立即回復一部分,之後再逐漸回復。

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第 12 題

Rank the magnitude of the Burgers vector for the following metals with atomic radii of 0.128 nm0.128\ \mathrm{nm} for Cu (FCC), 0.126 nm0.126\ \mathrm{nm} for Fe (BCC), 0.144 nm0.144\ \mathrm{nm} for Ag (FCC), and 0.186 nm0.186\ \mathrm{nm} for Na (BCC).

(A) Ag > Na > Fe > Cu
(B) Ag > Na > Cu > Fe
(C) Na > Ag > Cu > Fe
(D) Na > Ag > Fe > Cu

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核心觀念

柏氏向量 b\mathbf{b} 的大小取決於晶體結構中的柏氏向量方向與晶格常數 aa。常見的完全位錯柏氏向量為:

  • FCC:b=a2⟨110⟩\mathbf{b}=\dfrac{a}{2}\langle 110\rangle,因此 b=a2b=\dfrac{a}{\sqrt{2}}。
  • BCC:b=a2⟨111⟩\mathbf{b}=\dfrac{a}{2}\langle 111\rangle,因此 b=32ab=\dfrac{\sqrt{3}}{2}a。

題目提供原子半徑 rr,需先利用各晶體結構的幾何關係換算晶格常數,再求柏氏向量大小。

解題方法

FCC 晶胞中,原子沿面對角線相切:

2a=4r⇒a=22r\sqrt{2}a=4r \quad\Rightarrow\quad a=2\sqrt{2}r

代入 FCC 柏氏向量公式:

bFCC=a2=22r2=2rb_{\mathrm{FCC}}=\frac{a}{\sqrt{2}} =\frac{2\sqrt{2}r}{\sqrt{2}} =2r

BCC 晶胞中,原子沿體對角線相切:

3a=4r⇒a=4r3\sqrt{3}a=4r \quad\Rightarrow\quad a=\frac{4r}{\sqrt{3}}

代入 BCC 柏氏向量公式:

bBCC=32a=32⋅4r3=2rb_{\mathrm{BCC}}=\frac{\sqrt{3}}{2}a =\frac{\sqrt{3}}{2}\cdot\frac{4r}{\sqrt{3}} =2r

因此,無論是本題的 FCC 或 BCC 金屬,柏氏向量大小皆為 2r2r。依原子半徑計算:

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第 13 題

Which of the following does not correlate with optical transmittance properties?

(A) Refraction index
(B) Absorption coefficient
(C) Dielectric constant
(D) None of them

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核心觀念

光學穿透率描述入射光通過材料後,透射光強度占入射光強度的比例。它會受到材料表面反射與材料內部吸收影響,因此與折射率、吸收係數及介電常數都有關。

對厚度為 dd 的均勻材料,忽略多重反射時,穿透率可概略表示為

T≈(1−R)2e−αdT \approx (1-R)^2 e^{-\alpha d}

其中 RR 是單一界面的反射率,α\alpha 是吸收係數。正入射時,材料與空氣界面的反射率近似為

R=(n−1n+1)2R=\left(\frac{n-1}{n+1}\right)^2

nn 為折射率。吸收造成的光強衰減則遵循 I=I0e−αdI=I_0e^{-\alpha d}。

解題方法

逐一檢查各物理量是否會影響穿透率:

  1. 折射率會影響界面反射。
  2. 吸收係數會影響光在材料內部的衰減。
  3. 介電常數與光學折射率相關。

因此三者皆與光學穿透率有關,應選「以上皆有關」。

選項分析

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第 14 題

In a 10 cm×10 cm10\ \mathrm{cm}\times10\ \mathrm{cm} TEM photograph from a metallic foil of 200 nm200\ \mathrm{nm} thickness, the total dislocation length of dislocations at a magnification of 100,000×100{,}000\times is 400 cm400\ \mathrm{cm}. Determine the dislocation density in the foil.

(A) 2×1014 m−22\times10^{14}\ \mathrm{m}^{-2}
(B) 1×1014 m−21\times10^{14}\ \mathrm{m}^{-2}
(C) 4×1014 m−24\times10^{14}\ \mathrm{m}^{-2}
(D) 1×1010 m−21\times10^{10}\ \mathrm{m}^{-2}

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核心觀念

位錯密度 ρ\rho 定義為單位體積內的位錯總長度:

ρ=LV\rho=\frac{L}{V}

其中 LL 是試片中的實際位錯總長度,VV 是觀察到的金屬箔體積。照片上的長度與面積都受放大倍率影響,須換算回試片的實際尺寸。

解題方法

圖中可讀到:TEM 照片尺寸為 10 cm×10 cm10\ \mathrm{cm}\times10\ \mathrm{cm}、金屬箔厚度為 200 nm200\ \mathrm{nm}、放大倍率為 100,000100{,}000 倍,照片上量得的位錯總長度為 400 cm400\ \mathrm{cm}。

先將照片上的位錯長度除以放大倍率,換算成試片中的實際長度:

L=400 cm100,000=0.004 cm=4×10−5 mL=\frac{400\ \mathrm{cm}}{100{,}000} =0.004\ \mathrm{cm} =4\times10^{-5}\ \mathrm{m}

照片每邊 10 cm=0.1 m10\ \mathrm{cm}=0.1\ \mathrm{m},換算成試片實際邊長:

ℓ=0.1 m100,000=1×10−6 m\ell=\frac{0.1\ \mathrm{m}}{100{,}000} =1\times10^{-6}\ \mathrm{m}

因此,受觀察金屬箔體積為:

V=ℓ2t=(1×10−6 m)2(200×10−9 m)=2×10−19 m3V=\ell^2t =(1\times10^{-6}\ \mathrm{m})^2 (200\times10^{-9}\ \mathrm{m}) =2\times10^{-19}\ \mathrm{m^3}

代入位錯密度定義:

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第 15 題

Which one of the following materials was commonly used to produce plastic toys?

(A) Polystyrene
(B) Polyacetylene
(C) Polyfluorene
(D) Graphene

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核心觀念

本題考不同材料的典型用途。聚苯乙烯(Polystyrene, PS)是常見熱塑性塑膠,容易加工成形、成本低,常用於玩具等塑膠製品。

解題方法

原卷第 15 題列出的選項依序為 Polystyrene、Polyacetylene、Polyfluorene、Graphene;題目詢問哪一種材料常用來製作塑膠玩具。依材料的常見用途判斷,聚苯乙烯符合玩具塑膠的用途。

選項分析

  • (A) Polystyrene:正確。 聚苯乙烯容易射出成形且成本低,常用於玩具及其他塑膠製品。
  • **(B) Polyacetylene:錯誤。
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第 16 題

Which of the following phenomena can be used to measure the interstitial diffusion coefficient of alloys?

(A) Kirkendall effect
(B) Darken equation
(C) Matano method
(D) Frank-Read mechanism

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核心觀念

這題在考合金擴散係數的測量方法。Matano 法利用擴散偶退火後的成分分布,求得隨成分變化的互擴散係數 D~(C)\tilde D(C)。其核心依據是 Fick 第二定律與 Matano 面的物質平衡;常用的 Boltzmann–Matano 形式可寫為:

D~(C′)=−12t(dxdC)C′∫CLC′(x−xM) dC\tilde D(C') = -\frac{1}{2t} \left(\frac{dx}{dC}\right)_{C'} \int_{C_L}^{C'}(x-x_M)\,dC

其中 tt 是退火時間,xMx_M 是 Matano 面的位置,CLC_L 是一側的初始成分。這種方法由擴散偶的成分—距離曲線求出合金的互擴散係數。Boltzmann–Matano 分析說明

解題方法

辨認各選項的用途:Matano 法由成分分布計算擴散係數;Kirkendall 效應與 Darken 方程則涉及合金中不同元素的擴散速率及其關係;Frank–Read 機制屬於差排理論。

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第 17 題

Which one of the following compounds does NOT contain an sp3sp^3 hybrid orbital?

(A) Graphite
(B) Methane
(C) Silicon
(D) Ammonia

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核心觀念

本題考原子軌域混成與分子或晶體的鍵結幾何。碳、氮、矽等原子形成共價鍵時,常以混成軌域描述鍵結方向:

  • sp2sp^2 混成:一個 ss 軌域與兩個 pp 軌域混成,形成三個平面排列的混成軌域,剩下一個未混成的 pp 軌域。
  • sp3sp^3 混成:一個 ss 軌域與三個 pp 軌域混成,形成四個指向四面體方向的混成軌域。

解題方法

圖中第 17 題列出的選項是 graphite、methane、silicon、ammonia,題目詢問哪一種不含 sp3sp^3 混成軌域;本題未附分子結構圖,依各物質的標準鍵結模型判斷。關鍵是比較每種物質的原子周圍有幾個鍵結方向,以及是否有孤電子對參與四面體電子域排列。

選項分析

  • (A) Graphite(石墨)—正確答案。 石墨中的碳原子與三個鄰近碳原子形成共價鍵,鍵結方向呈平面三角形,因此碳原子採 sp2sp^2 混成。
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第 18 題

Which of the following statements about “Self-Diffusion” is correct?

(A) Self-diffusion represents the diffusion of impurity atoms in a crystal.
(B) Self-diffusion represents the diffusion of interstitials in a crystal.
(C) The direction of diffusion flux of vacancy is the same as that of self-diffusion.
(D) Self-diffusion represents motion of atoms when the chemical potential gradient equals zero.

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核心觀念

自擴散(self-diffusion)是同一種元素的原子在該元素晶體中的遷移。晶體成分均勻時,原子仍會因熱振動而隨機跳遷;但各方向的跳遷彼此抵銷,因此沒有淨原子通量。

自擴散常以同位素示蹤原子觀察:示蹤原子與晶體中的原子化學性質相同,只靠標記追蹤其位置變化。因此,示蹤原子可以有通量,但晶體整體並沒有因成分或化學勢梯度而產生淨流動。其通量可寫成:

J∗=−D∗∇C∗J^*=-D^*\nabla C^*

其中 J∗J^* 是示蹤原子通量,D∗D^* 是自擴散係數,C∗C^* 是示蹤原子濃度。

解題方法

判斷自擴散時,先看遷移的原子是不是晶體本身的原子,而非雜質原子或點缺陷。再區分「原子仍持續隨機跳遷」與「是否有淨通量」:當化學勢梯度為零時,原子仍有熱激發造成的微觀運動,只是整體沒有由化學勢梯度驅動的淨流動。

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第 19 題

What is the material most commonly used for optical fiber?

(A) Silica
(B) Carbon
(C) As
(D) Ge

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核心觀念

本題考查光纖的常用材料。光纖以透明、低光學損耗的材料作為纖芯,讓光訊號能在其中長距離傳輸。最常見的光纖材料是高純度二氧化矽(silica,SiO2SiO_2)。

光纖利用纖芯與包層之間的折射率差,使光在界面發生全反射,沿纖芯傳播。材料若吸收或散射太多光,訊號便會衰減,因此低損耗與高純度是重要條件。

解題方法

先辨認題目問的是光纖的「主要材料」,再從選項中找出兼具透明度與低光學損耗、廣泛用於光纖製造的材料。二氧化矽玻璃具備這些特性,因此選擇 silica。

實際光纖中也可能加入少量摻雜物來調整折射率,例如含鍺的材料可提高纖芯折射率;但摻雜物不代表光纖最常用的基礎材料。

選項分析

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第 20 題

For the Kirkendall effect, which of the following descriptions is wrong?

(A) The region in tension can accompany pore formation.
(B) The effect shows that the main diffusion mechanism for substitutional solid solution is the vacancy mechanism.
(C) The region is in compression for the side of slower moving species.
(D) An element with a higher melting temperature usually diffuses faster.

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核心觀念

Kirkendall 效應是二元置換型固溶體中,兩種原子的本徵擴散速率不同所造成的現象。若以惰性標記標示原本的界面,擴散後標記會移動,表示晶格相對於原子有淨移動;這是置換型固溶體可藉由空孔機制進行擴散的證據。

在晶格參考座標中,原子通量可用 Fick 第一定律表示:

Ji=−Di∇CiJ_i=-D_i\nabla C_i

若兩種原子的本徵擴散係數不同,就會產生不平衡的原子通量。空孔通量方向與原子通量的淨方向相反;若空孔在局部累積,便可能形成孔洞。原子流失較快的一側傾向承受張應力,原子累積較多的一側傾向承受壓應力。

解題方法

逐項檢查各敘述是否符合「擴散速率不相等、空孔反向通量、兩側應力差異」的因果關係;再用熔點與擴散活化能的通常關聯判斷選項(D)。

選項分析

(A) 正確。
較快擴散的一側會因原子淨流出而產生空孔累積。空孔聚集可形成孔洞;該側同時傾向承受張應力,因此張應力區可伴隨孔洞形成。

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第 21 題

The periodic table below exhibits the Pauling scale of electronegativity for the elements. Which one of the following materials has the lowest “% ionic character”?

🖼️【此處有附圖,請對照原卷】

(A) CaF2\mathrm{CaF_2}
(B) NaCl\mathrm{NaCl}
(C) SiC\mathrm{SiC}
(D) Al2O3\mathrm{Al_2O_3}

🖼️ 本題含圖表,以下為原卷對應頁面:
原卷第 4 頁

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核心觀念

題目考的是電負度差與鍵結離子性的關係。Pauling 經驗式為

%離子性=[1−exp⁡(−0.25(Δχ)2)]×100%\% \text{離子性} = \left[1-\exp\left(-0.25(\Delta\chi)^2\right)\right]\times 100\%

其中 Δχ=∣χA−χB∣\Delta\chi=|\chi_A-\chi_B|。電負度差越大,鍵結的離子性越高;因此要找離子性最低的材料,只需比較各材料的電負度差。

解題方法

原卷圖中的電負度表可讀出:Ca 為 1.01.0、F 為 4.04.0;Na 為 0.90.9、Cl 為 3.03.0;Si 為 1.81.8、C 為 2.52.5;Al 為 1.51.5、O 為 3.53.5。逐一計算各材料中元素間的電負度差:

  • CaF2\mathrm{CaF_2}:Δχ=∣4.0−1.0∣=3.0\Delta\chi=|4.0-1.0|=3.0
  • NaCl\mathrm{NaCl}:Δχ=∣3.0−0.9∣=2.1\Delta\chi=|3.0-0.9|=2.1
  • SiC\mathrm{SiC}:Δχ=∣2.5−1.8∣=0.7\Delta\chi=|2.5-1.8|=0.7
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第 22 題

Usually, materials with the following crystal structure fail in ductile mode:

(A) FCC
(B) BCC
(C) HCP
(D) Monoclinic

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核心觀念

此題考晶體結構與金屬塑性變形、延性破壞的關係。延性材料在破壞前能藉由位錯滑移產生明顯塑性變形;可運作的滑移系統越多,通常越容易塑性變形。

面心立方(FCC)金屬常見滑移系統為 {111}⟨110⟩\{111\}\langle 110\rangle,共有 12 組。其滑移面與滑移方向皆為密排排列,位錯容易移動,因此具有良好延性,典型情況下以延性模式破壞。

解題方法

比較各晶體結構能否提供足夠且容易啟動的滑移系統。FCC 的密排滑移系統多且容易啟動,最符合一般材料學中「常以延性模式破壞」的描述,因此選 FCC。

選項分析

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第 23 題

When two or more crystal structures are possible for a material of given composition, it is called:

(A) Isomerism
(B) Polymorphism
(C) Anisotropy
(D) Spherulites

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核心觀念

本題考查材料的多晶型(polymorphism):同一化學組成的材料,能以兩種以上不同的晶體結構存在。晶體結構不同,原子的排列方式與材料性質也可能不同。

解題方法

題幹的關鍵是「相同組成」與「兩種以上晶體結構」。符合這項定義的名稱就是多晶型,因此選擇 (B)。

選項分析

  • (A) Isomerism(異構現象):指化學式相同的物質具有不同的分子結構或原子連接方式,不是題目所問的晶體結構差異。
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第 24 題

Which of the following is not correct for a screw dislocation?

(A) It may be formed by a tensile stress.
(B) It belongs to a one-dimensional defect.
(C) It can be found in crystalline materials.
(D) The dislocation line can be linear.

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核心觀念

差排是晶體中的一維線缺陷,以差排線方向單位向量 t\mathbf{t} 與柏格斯向量 b\mathbf{b} 的相對方向分類:

  • 螺旋差排:b∥t\mathbf{b}\parallel\mathbf{t}。其理想化幾何可視為晶體兩側沿差排線方向相對滑移,形成螺旋狀的原子面。
  • 刃差排:b⊥t\mathbf{b}\perp\mathbf{t}。

螺旋差排的理想化形成方式是剪切變形;相關材料學教材也以剪應力造成的剪切畸變說明螺旋差排的形成。Callister 材料科學教材

解題方法

先看各選項是否符合螺旋差排的基本定義與形成幾何。判斷應力時,要分清楚「直接造成相對滑移的剪應力」與「外加拉伸應力」:在一般的理想化描述中,螺旋差排由剪切位移形成,並非由單純的正向拉伸應力形成。拉伸載荷在特定晶體取向下可於滑移系統產生解析剪應力;此時促成滑移的是解析剪應力分量,而非正向拉伸本身。

選項分析

(A) It may be formed by a tensile stress.

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第 25 題

Which one of the following metals has a high corrosion resistance due to the formation of an oxygen-rich layer on the surface?

(A) Ag
(B) Ti
(C) Au
(D) Fe

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核心觀念

金屬表面的氧化膜若緻密、附著性佳且穩定,可阻隔氧氣、水分與腐蝕性離子繼續接觸金屬,形成鈍化膜,使腐蝕速率大幅降低。這種由富氧氧化物構成的保護層,是鈦具有良好耐蝕性的關鍵。

解題方法

辨認題目中的「表面形成富氧層」:這指的是金屬表面生成穩定的氧化物鈍化膜。鈦在空氣或含氧環境中會迅速形成薄而緻密的二氧化鈦(TiO2\mathrm{TiO_2})膜;該膜能附著於表面並抑制腐蝕反應持續進行。因此,符合題意的是鈦。

選項分析

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第 26 題

Which of the following is not a primary strengthening mechanism of single-phase metals?

(A) Grain-boundary strengthening
(B) Grain coarsening
(C) Strain hardening
(D) Solid solution strengthening

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核心觀念

單相金屬常見的強化機制包括晶粒細化、應變硬化與固溶強化。這些機制都會增加位錯移動的阻力,使材料產生塑性變形所需的應力提高。

晶粒細化的效果可由 Hall–Petch 關係表示:

σy=σ0+kyd−1/2\sigma_y=\sigma_0+k_y d^{-1/2}

其中 σy\sigma_y 是降伏強度,dd 是平均晶粒直徑;晶粒愈小,晶界愈多,位錯滑移愈容易受到阻礙,因此強度愈高。

解題方法

逐一判斷選項是否會提高位錯移動阻力。特別注意晶粒大小的變化方向:晶粒細化會強化金屬;晶粒粗化則減少晶界,通常會降低強度。因此,「晶粒粗化」不是主要強化機制。

選項分析

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第 27 題

The recrystallization rate of a cold-worked metal is not dependent on:

(A) Annealing temperature
(B) Annealing time
(C) Purity of the metal
(D) Deformation amount

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核心觀念

再結晶是冷加工金屬加熱時,新的低位錯密度晶粒形成並長大的過程。再結晶速率受溫度、冷加工量及金屬純度等因素影響:溫度升高會加快原子擴散與晶界移動;冷加工量增加會提高儲存能,提供再結晶的驅動力;雜質則會阻礙晶界移動。再結晶動力學概述

描述再結晶分率隨時間變化的常用關係式為:

X=1−exp⁡(−ktn)X=1-\exp(-kt^n)

其中 XX 為再結晶分率,tt 為退火時間,kk 為反映再結晶動力學的速率常數,nn 為 Avrami 指數。此式說明退火時間會影響再結晶進行的程度;本題依一般考題的分類,問的是影響再結晶速率的材料與熱處理因素,退火時間則是描述反應進程的時間變數。再結晶動力學方程說明

解題方法

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第 28 題

In comparison with thermoset and thermoplastic polymers, which one is an advantage of thermoplastic?

(A) Easier process
(B) Better solvent resistance
(C) Better heat resistance
(D) Better cool process

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核心觀念

本題考查熱塑性塑膠與熱固性塑膠的分子結構及加工特性。

熱塑性塑膠受熱時會軟化或熔融,冷卻後固化;這個過程可重複進行,因此能透過射出成形、押出成形等方式加工,也較容易回收再利用。熱固性塑膠則在加熱固化時形成交聯網狀結構,固化後無法再次熔融成形。

解題方法

比較兩者時,先判斷材料受熱後能否重新軟化:

  • 熱塑性塑膠可反覆加熱軟化、冷卻固化,加工彈性較大。
  • 熱固性塑膠固化後形成交聯結構,不能再熔融重塑。

因此,熱塑性塑膠的優勢在於加工與成形較方便;熱固性塑膠則通常有較佳的耐熱性與耐溶劑性。

選項分析

  • (A) Easier process:正確。 熱塑性塑膠可藉加熱軟化或熔融後成形,冷卻即可定型,且可重複加工,通常比需要固化反應的熱固性塑膠容易加工。
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第 29 題

Which of the following effects can demonstrate that the substitutional diffusion of alloys results from a vacancy mechanism?

(A) Darken effect
(B) Matano effect
(C) Snoek effect
(D) Kirkendall effect

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核心觀念

置換型擴散中,溶質原子占據晶格位置;若原子透過與空孔交換位置移動,原子通量與空孔通量方向相反。當合金兩成分的本徵擴散速率不同,晶格會產生淨移動,原先放在擴散界面的惰性標記也會相對於試片移位。這個標記移動現象稱為 Kirkendall effect(柯肯達爾效應),可用來證明置換型擴散具有空孔機制。劍橋大學材料科學資料:Kirkendall effect

解題方法

判斷關鍵在於辨認哪個效應直接觀察到「晶格標記移動」。若成分 A、B 的本徵擴散係數不同,兩種原子的擴散通量不會完全抵銷,必須伴隨空孔的反向通量;因此原先放在界面的惰性標記會偏離原位置。這項觀察就是 Kirkendall 效應,也是空孔交換機制的實驗證據。

選項分析

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第 30 題

Martensite:

(A) Diffusion-controlled growth
(B) Interface-controlled growth
(C) Recrystallization
(D) Sphere nucleation

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核心觀念

本題考查麻田散鐵(martensite)的形成機制。麻田散鐵轉變是無擴散、位移型轉變:晶格中的原子以協同位移方式重新排列,轉變過程不仰賴原子長距離擴散。因此,它的成長由移動中的相界面推進,屬於界面控制成長。

解題方法

判斷關鍵是看麻田散鐵的轉變是否需要原子擴散。擴散型轉變須靠原子長距離移動來形成新相;麻田散鐵則以協同剪切位移形成新相,常在相界面快速推進。因此,本題應選描述其成長由界面推進控制的選項。

選項分析

  • (A) Diffusion-controlled growth:錯誤。 擴散控制成長需要溶質或原子透過長距離擴散來推進轉變。麻田散鐵轉變是無擴散的協同位移,不符合此機制。
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第 31 題

When Al3+\mathrm{Al^{3+}} ions substitute the Mg sites in MgO\mathrm{MgO}, what is the charge-compensated defect?

(A) Hole
(B) Electron
(C) Mg vacancy
(D) Oxygen ion

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核心觀念

本題考查離子晶體中的點缺陷符號與電荷補償。以理想晶格中的離子為基準,取代離子的有效電荷由其價數差決定:

  • Al3+\mathrm{Al^{3+}} 取代 Mg2+\mathrm{Mg^{2+}},多出一個正電荷,記為 AlMg∙\mathrm{Al_{Mg}^{\bullet}}。
  • Mg2+\mathrm{Mg^{2+}} 離開晶格位置形成鎂空位,少了兩個正電荷,記為 VMg′′\mathrm{V_{Mg}^{''}}。

晶體須維持電中性,因此帶正有效電荷的取代缺陷須由帶負有效電荷的缺陷補償。

解題方法

一個 AlMg∙\mathrm{Al_{Mg}^{\bullet}} 帶 +1+1 有效電荷;一個 VMg′′\mathrm{V_{Mg}^{''}} 帶 −2-2 有效電荷。令總有效電荷為零:

2AlMg∙+VMg′′2\mathrm{Al_{Mg}^{\bullet}}+\mathrm{V_{Mg}^{''}}
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第 32 題

MgO\mathrm{MgO} is a very stable insulator. When Al3+\mathrm{Al^{3+}} ions substitute the Mg sites of MgO\mathrm{MgO}, what kind of defect will be generated?

(A) Electron
(B) Hole
(C) Mg vacancy
(D) Oxygen vacancy

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核心觀念

本題考查離子晶體中異價離子取代時的電荷補償。以 Kröger–Vink 符號表示,Al3+\mathrm{Al^{3+}} 取代 Mg2+\mathrm{Mg^{2+}} 的位置後,會比原本的鎂離子多一個正電荷,記為 AlMg∙\mathrm{Al_{Mg}^{\bullet}}。晶體必須透過產生帶負有效電荷的缺陷,維持電中性。

解題方法

原卷第 32 題指出 MgO\mathrm{MgO} 是穩定的絕緣體,並問 Al3+\mathrm{Al^{3+}} 取代 Mg\mathrm{Mg} 位後會產生哪種缺陷;選項包括電子、電洞、鎂空缺與氧空缺。由於 AlMg∙\mathrm{Al_{Mg}^{\bullet}} 帶一個正有效電荷,需以負有效電荷補償。鎂離子離開晶格形成的鎂空缺 VMg′′\mathrm{V_{Mg}^{''}} 帶兩個負有效電荷,因此兩個鋁取代缺陷可由一個鎂空缺補償:

2AlMg∙+VMg′′2\mathrm{Al_{Mg}^{\bullet}}+\mathrm{V_{Mg}^{''}}
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第 33 題

Which of the following statements about “dynamic recovery” is correct?

(A) Dynamic recovery will increase the dislocation density and strength.
(B) Dynamic recovery typically occurs at lower temperature compared with that of static recovery.
(C) Dynamic recovery is much easier to occur for BCC crystals compared with that of FCC crystals.
(D) The primary mechanism involved in dynamic recovery is dislocation cross-slip.

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核心觀念

動態回復(dynamic recovery)是材料在塑性變形進行中,位錯透過交滑移、攀移等方式重新排列或互相湮滅,使材料內部儲存能下降的現象。它會抵銷加工硬化,降低加工硬化速率;高溫變形時尤其常見。《Physical Metallurgy Principles》相關章節

位錯密度的變化可概念化為:

dρdε=位錯累積項−位錯回復項\frac{d\rho}{d\varepsilon} = \text{位錯累積項} - \text{位錯回復項}

其中 ρ\rho 是位錯密度,ε\varepsilon 是塑性應變。動態回復會減少位錯累積,並使加工硬化趨緩;若累積與回復達到平衡,位錯密度可趨於穩定。

解題方法

先抓住動態回復的兩個特徵:它發生在變形期間,且主要藉由位錯的交滑移等機制,使位錯重新排列或湮滅。再依序檢查各選項是否符合這兩點。

選項分析

(A) 錯誤。 動態回復會消除或重新排列部分位錯,降低位錯造成的儲存能與加工硬化速率。變形中位錯總數仍可能因位錯增殖而增加,但不能說是「動態回復使位錯密度與強度增加」。

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第 34 題

To support a 300 kg silicon single crystal, growing a long-thin and dislocation-free “neck” (diameter 22–4 mm4\ \mathrm{mm}, length about 30 mm30\ \mathrm{mm}) is necessary during the Czochralski process. If dislocations are not completely eliminated in the neck, in what direction will the dislocations slip under the heavy load of the grown single crystal? (Silicon has an FCC crystal structure.)

(A) {111}⟨110⟩\{111\}\langle110\rangle
(B) {110}⟨111⟩\{110\}\langle111\rangle
(C) {112}⟨111⟩\{112\}\langle111\rangle
(D) {123}⟨111⟩\{123\}\langle111\rangle

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核心觀念

本題考「滑移系統」的晶體學形式。滑移系統由滑移面與滑移方向組成,記作 {hkl}⟨uvw⟩\{hkl\}\langle uvw\rangle;花括號代表等價晶面族,尖括號代表等價晶向族。

FCC 晶體的典型滑移系統為 {111}⟨110⟩\{111\}\langle110\rangle。矽實際上具有鑽石立方結構,可視為 FCC 晶格加上基底;依題目指定的 FCC 模型判斷,其典型滑移面與方向仍採用 {111}⟨110⟩\{111\}\langle110\rangle。

解題方法

單軸負載下,施加在特定滑移系統上的解析剪應力為

τR=σcos⁡ϕcos⁡λ\tau_R=\sigma\cos\phi\cos\lambda

其中 σ\sigma 是外加應力,ϕ\phi 是拉力軸與滑移面法線的夾角,λ\lambda 是拉力軸與滑移方向的夾角。當解析剪應力達到臨界值,位錯便沿滑移面、朝滑移方向移動。

這題沒有提供晶體取向,因此無法由剪應力公式選出唯一的具體晶面與晶向;題目所問的是 FCC 的滑移系統族。FCC 的密排面為 {111}\{111\},密排方向為 ⟨110⟩\langle110\rangle,故選 {111}⟨110⟩\{111\}\langle110\rangle。

選項分析

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第 35 題

In grain growth, the relationship between grain diameter DD and time tt is that DD is proportional to:

(A) t−1t^{-1}
(B) t−0.5t^{-0.5}
(C) t0.5t^{0.5}
(D) tt

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核心觀念

本題考查正常晶粒成長的動力學關係。材料經高溫退火時,晶界會移動,使較大的晶粒長大、較小的晶粒縮小;晶粒長大的驅動力主要來自降低晶界總能量。

正常晶粒成長常用下式描述:

Dn−D0n=KtD^n-D_0^n=Kt

其中 D0D_0 是初始平均晶粒直徑,DD 是時間 tt 後的平均晶粒直徑,KK 是與材料及溫度有關的成長常數,nn 是晶粒成長指數。一般的正常晶粒成長取 n=2n=2,因此:

D2−D02=KtD^2-D_0^2=Kt

這是拋物線成長律。當成長時間較長、DD 遠大於 D0D_0 時,可近似為 D2≈KtD^2\approx Kt,故 D∝t0.5D\propto t^{0.5}。正常晶粒成長動力學

解題方法

將正常晶粒成長的指數 n=2n=2 代入通式:

D2−D02=KtD^2-D_0^2=Kt

若題目詢問晶粒直徑與時間的比例關係,採用長時間成長近似,忽略相對較小的初始晶粒尺寸項 D02D_0^2:

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第 36 題

The most critical factor in the heterogeneous nucleation of solidification is:

(A) Heat transfer direction
(B) Interface energy
(C) Undercooling
(D) Composition

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核心觀念

本題考查凝固時的異質成核。異質成核是晶核在模具壁、夾雜物或其他固體表面等位置形成;這些位置能降低形成新固液界面所需的能量,因此成核障礙通常低於均質成核。

成核的自由能變化包含體積自由能的降低,以及形成界面的能量代價。均質成核的臨界自由能障礙可寫為

ΔGhom∗=16πγsl 33(ΔGv)2\Delta G_{\mathrm{hom}}^* = \frac{16\pi\gamma_{sl}^{\,3}}{3(\Delta G_v)^2}

其中 γsl\gamma_{sl} 是固液界面能,ΔGv\Delta G_v 是單位體積的自由能變化。異質成核的能障為

ΔGhet∗=f(θ)ΔGhom∗\Delta G_{\mathrm{het}}^* = f(\theta)\Delta G_{\mathrm{hom}}^*

其中 f(θ)f(\theta) 是由潤濕角 θ\theta 決定的幾何因子,且 0≤f(θ)≤10\leq f(\theta)\leq 1。界面能與潤濕情形會直接影響成核能障,因而是異質成核的關鍵因素。

解題方法

判斷題目問的是「異質成核」的關鍵因素,應先看異質成核相對於均質成核的主要差異:晶核可在基底上形成,降低新增界面的能量代價。

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第 37 題

Work hardening is mainly due to the interactions between:

(A) Dislocations and solute atoms
(B) Dislocations and grain boundaries
(C) Dislocations and precipitates
(D) Dislocations and dislocations

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核心觀念

加工硬化(work hardening,又稱應變硬化)是金屬經塑性變形後,強度與硬度上升、延性下降的現象。主要原因是塑性變形使晶體中的位錯密度增加;位錯彼此交互作用,形成纏結或成為其他位錯滑移的障礙,因此後續變形需要更大的外加應力。

位錯強化常以 Taylor 關係描述:

Δσ≈αGbρ\Delta \sigma \approx \alpha G b \sqrt{\rho}

其中 Δσ\Delta \sigma 是位錯造成的強度增加,α\alpha 是材料相關常數,GG 是剪切模數,bb 是柏格斯向量大小,ρ\rho 是位錯密度。塑性變形使 ρ\rho 增加,因而提高材料強度。

解題方法

判斷關鍵在於區分「加工硬化」與其他強化機制。加工硬化發生於材料受塑性變形時,位錯大量生成並相互阻礙;因此要找出最直接、最主要的障礙來源,就是位錯彼此的交互作用。

溶質原子、晶界與析出物也能阻礙位錯移動,分別對應固溶強化、晶界強化與析出強化;但它們不是本題所問加工硬化的主要來源。

選項分析

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第 38 題

What is the secondary recrystallization?

(A) Stress release
(B) Increase the number of grains
(C) Increase the total grain-boundary energy
(D) Abnormal grain growth

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核心觀念

再結晶可分為初次再結晶與二次再結晶。初次再結晶時,冷加工後具有高位錯密度的變形晶粒,會被新的低缺陷晶粒取代,主要效果是消除加工硬化並釋放儲存的應變能。

二次再結晶則發生在初次再結晶之後,少數晶粒異常快速長大,吞併周圍較小的晶粒,因此又稱為異常晶粒成長。晶界能可表示為

EGB=γGBAGBE_{\mathrm{GB}}=\gamma_{\mathrm{GB}}A_{\mathrm{GB}}

其中 γGB\gamma_{\mathrm{GB}} 是晶界單位面積能,AGBA_{\mathrm{GB}} 是晶界總面積。晶粒長大通常使總晶界面積減少,降低晶界能。

解題方法

判斷關鍵在「二次再結晶」的定義:它不是描述材料釋放應力,也不是晶粒數量增加,而是初次再結晶完成後,少數晶粒選擇性地長大,形成明顯的異常晶粒成長。因此應選描述異常晶粒成長的選項。

選項分析

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第 39 題

The impact strength of a polymer is measured as:

(A) Elasticity
(B) Yield strength
(C) Creep
(D) Toughness

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核心觀念

高分子材料的衝擊強度,是材料受到快速衝擊時,抵抗破壞並吸收能量的能力。衝擊試驗通常測量試片破壞前吸收的能量,並依試片截面積換算;因此衝擊強度反映材料在快速受力下的韌性(toughness)。

解題方法

先抓住題幹中的「impact strength」:衝擊載荷作用時間短,關鍵在材料能否吸收足夠能量而不立即斷裂。能吸收較多能量、抵抗裂紋擴展與破壞的材料,韌性較高。因此本題對應的性質是 Toughness。

選項分析

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第 40 題

Which of the following statements about “creep” is correct?

(A) Creep deformation of metal occurs at a temperature lower than 30%30\% of its melting temperature.
(B) Creep deformation of metal is related to dislocation motion, vacancy diffusion, and grain-boundary sliding.
(C) Creep rate is independent of the stress applied.
(D) The characterized “creep strain rate” typically refers to the rate in its initial stage.

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核心觀念

潛變(creep)是材料在持續應力作用下,隨時間逐漸累積的永久變形。金屬的潛變通常在高同質溫度下較顯著;同質溫度定義為絕對溫度之比:

Thom=TTmT_{\mathrm{hom}}=\frac{T}{T_m}

其中 TT 是材料溫度,TmT_m 是熔點,兩者都須以開爾文表示。金屬常在約 0.4Tm0.4T_m 以上出現顯著潛變。

潛變曲線通常分為初期、穩態與加速三階段。工程上常用的潛變率,通常指穩態階段的潛變率。其應力依存性常以冪次律描述:

ε˙=Aσnexp⁡(−QRT)\dot{\varepsilon}=A\sigma^n\exp\left(-\frac{Q}{RT}\right)

其中 ε˙\dot{\varepsilon} 為潛變率、σ\sigma 為應力、nn 為應力指數、QQ 為活化能、RR 為氣體常數,AA 為材料常數。

解題方法

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第 41 題

How many equivalent {111}⟨110⟩\{111\}\langle110\rangle slip systems are there in the FCC lattice?

(A) 3
(B) 4
(C) 6
(D) 12

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核心觀念

滑移系統由「滑移面」與「滑移方向」組成。FCC 的主要滑移系統為 {111}⟨110⟩\{111\}\langle110\rangle,因此系統數為:

滑移系統數=不同滑移面的數目×每個滑移面內不同滑移方向的數目\text{滑移系統數} = \text{不同滑移面的數目} \times \text{每個滑移面內不同滑移方向的數目}

同一條滑移方向的正、反向代表同一個滑移系統;同一滑移面的法向量正、反向也代表同一個滑移面。

解題方法

立方晶系的 {111}\{111\} 面族有 8 個法向量符號組合,但相反法向量代表同一個平面,所以不同的 {111}\{111\} 滑移面共有:

82=4\frac{8}{2}=4

接著計算每個 (111)(111) 面內的 ⟨110⟩\langle110\rangle 方向。方向向量必須與平面法向量垂直,因此需滿足內積為零。以 (111)(111) 面為例,法向量為 [111][111],面內的代表方向可取:

[11ˉ0],[101ˉ],[011ˉ][1\bar{1}0],\quad [10\bar{1}],\quad [01\bar{1}]
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第 42 題

What is the most common defect that can significantly degrade the elastic properties and strength of ceramics?

(A) Stacking faults
(B) Point defects
(C) Pores
(D) Dislocations

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核心觀念

陶瓷的彈性性質與強度,會受到材料內部缺陷影響。燒結等製程常留下孔隙;孔隙會減少實際承載面積,並在孔洞邊緣造成應力集中,因此是陶瓷中最常見、且會明顯降低彈性模數與強度的缺陷。

孔隙率增加時,彈性模數通常會下降,常以經驗關係表示:

E=E0(1−P)nE = E_0(1-P)^n

其中 EE 為含孔隙材料的彈性模數,E0E_0 為無孔隙材料的彈性模數,PP 為孔隙率,nn 為與材料及微結構有關的常數。此式說明孔隙率增加會使材料變得較不剛硬。

陶瓷屬脆性材料,孔隙也會成為裂縫起始處。依據線彈性破壞力學,裂縫尖端的應力強度因子可寫為:

KI=YσπaK_I = Y\sigma\sqrt{\pi a}

其中 YY 為幾何因子,σ\sigma 為外加應力,aa 為缺陷尺寸。缺陷越大,裂縫越容易擴展,材料的破壞強度便越低。

解題方法

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第 43 題

Predict one of the following elements having a complete solubility in aluminum.

(A) Manganese
(B) Silicon
(C) Copper
(D) Zinc

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核心觀念

「完全固溶」是指兩種元素在固態下可按任意比例形成單一固溶體;若只能溶入有限比例,便是「有限固溶」。判斷置換型固溶體時,常用休姆-羅瑟里規則作為預測依據,考量因素包括原子尺寸差、晶體結構、電負度及價電子數。這些規則是判斷趨勢的準則,最後仍須以相圖確認。

解題方法

題目以鋁為溶劑,須判斷選項元素是否能與鋁形成固態完全固溶體。鋁為面心立方結構;選項元素與鋁的固溶程度可由二元相圖中的固溶度判斷。

依鋁合金系統資料,鋅在鋁中的固態溶解度是這些常見合金元素中最高者,但最高值約為 66.466.4 at.% Zn,仍非任意比例的完全固溶。因此,若題目中的「complete solubility」按字面解讀為「完全固溶」,四個選項都不符合;若命題原意是問「哪個元素在鋁中的固態溶解度最高」,則選鋅。ASM Handbook:鋁中合金元素的固態溶解度

選項分析

  • (A) Manganese(錳):錳在鋁中的固態溶解度有限,鋁富側的最大固溶度約為 1.821.82 wt.%;不符合完全固溶,也不是選項中固溶度最高者。
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第 44 題

How many are there octahedral sites in a BCC lattice?

(A) 4
(B) 6
(C) 8
(D) 9

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核心觀念

本題考查晶體中的八面體間隙位置數。題目問的是一個體心立方(BCC)慣用晶胞內有多少個八面體間隙。計數時要考慮間隙位於晶胞邊界時,由相鄰晶胞共享的比例。

解題方法

BCC 慣用晶胞中的八面體間隙有兩類:

  • 12 個邊心位置:每個邊心由 4 個晶胞共享,因此貢獻 1/41/4 個。
  • 6 個面心位置:每個面心由 2 個晶胞共享,因此貢獻 1/21/2 個。

所以每個 BCC 慣用晶胞中的八面體間隙總數為

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第 45 題

For an ASTM grain size of 5, estimate how many grains one can observe under a magnification of 25.

(A) 16
(B) 64
(C) 256
(D) 1,024

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核心觀念

ASTM 晶粒度級數 GG 與在 100×100\times 放大下、每平方英吋影像面積所包含的晶粒數 N100N_{100} 的關係為

N100=2G−1N_{100}=2^{G-1}

固定觀察影像面積時,放大倍率越低,涵蓋的試片面積越大,因此可觀察到的晶粒數越多。晶粒數與放大倍率的平方成反比:

NM=N100(100M)2N_M=N_{100}\left(\frac{100}{M}\right)^2

解題方法

題目給定 G=5G=5,先求 100×100\times 下每平方英吋影像中的晶粒數:

N100=25−1=16N_{100}=2^{5-1}=16

再換算至 25×25\times。由於線性放大倍率降為原來的 14\frac{1}{4},同一影像面積涵蓋的試片面積增加為 42=164^2=16 倍,因此晶粒數也增加 16 倍:

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第 46 題

Fick’s First Law: Some physical factors are not considered. They are:

(A) Temperature and time
(B) Activation energy and diffusion rate
(C) Temperature and composition
(D) Time and distance

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核心觀念

Fick 第一定律描述穩態下的擴散通量與濃度梯度之間的關係:

J=−DdCdxJ=-D\frac{dC}{dx}

其中,JJ 是擴散通量,DD 是擴散係數,CC 是濃度,xx 是位置。負號表示物質沿濃度降低的方向擴散。

此定律以位置上的濃度變化描述擴散,式中沒有明確的時間變數;溫度也沒有以獨立變數出現。通常在使用時,會把溫度視為固定條件,並將其對擴散係數 DD 的影響包含在 DD 中。

解題方法

判斷各選項是否為 Fick 第一定律未明確納入的因素:

  1. 對照公式中的變數,確認濃度與距離是否已經透過濃度梯度納入。
  2. 確認公式是否直接含有時間與溫度。
  3. 選出兩者皆未明確出現在定律中的選項。

由公式可見,CC 和 xx 透過 dCdx\frac{dC}{dx} 出現;tt 和 TT 則未直接出現,因此符合題意的是溫度與時間。

選項分析

  • (A) Temperature and time:正確。 溫度未作為公式中的獨立變數;時間也未出現在 Fick 第一定律中。此定律描述穩態擴散,通常假設通量不隨時間改變。
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第 47 題

Which of the following statements is correct?

(A) The valence electrons of metals are not bound to any particular atom in the solid.
(B) The valence electrons of metals are weakly bound to any particular atom in the solid.
(C) The valence electrons of metals are strongly bound to any particular atom in the solid.
(D) None of them.

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核心觀念

本題考查金屬鍵與金屬價電子的狀態。金屬原子的價電子容易脫離原本原子的局部束縛,在整個固體中離域;這些離域電子可在金屬離子(或原子核與內層電子形成的正離子核心)之間移動,並與正離子核心產生靜電吸引,形成金屬鍵。

因此,描述金屬價電子時,關鍵是它們不專屬於任何一個特定原子,而不是仍被某一原子局部束縛。

解題方法

依金屬鍵的定義判斷:若價電子能在整個金屬固體中離域,就不受限於特定原子。據此比對各選項對「價電子是否束縛於特定原子」的描述,即可選出符合金屬鍵模型的敘述。

選項分析

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第 48 題

Which of the following is more effective at stopping dislocation motion?

(A) High-angle boundaries
(B) Coherent boundaries
(C) Low-angle boundaries
(D) Twin boundaries

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核心觀念

本題考晶界對差排滑移的阻礙能力。差排移動時,必須沿特定滑移面與滑移方向前進;遇到晶界後,若晶界兩側的晶格取向差異大、滑移面與差排結構難以銜接,差排就較難穿越。

依晶粒間取向差異,晶界可分為低角度晶界與高角度晶界。低角度晶界可近似視為規則排列的差排,高角度晶界的原子排列失配較大,通常更能阻擋差排。晶粒細化提高晶界密度,也能提升材料的降伏強度,常以 Hall–Petch 關係描述:

σy=σ0+kyd−1/2\sigma_y = \sigma_0 + k_y d^{-1/2}

其中 dd 為平均晶粒尺寸;晶粒越小,差排遇到晶界的機會越多。

解題方法

比較各類晶界時,重點是看晶界兩側的晶格與滑移系統是否容易銜接。取向差越大、原子排列失配越明顯,差排越難直接穿越;因此,一般而言,高角度晶界的阻擋效果強於低角度晶界。

選項分析

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第 49 題

How many of the following factors are critical to determine the formation of interstitial sites or substitutional sites?

Atomic size, atomic weight, crystal structure, density, crystal size, valences, conductivity, and Fermi energy.

(A) 5
(B) 4
(C) 3
(D) 2

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核心觀念

本題考查置換型與間隙型固溶體的形成條件。置換型固溶體中,溶質原子取代溶劑晶格中的原子;間隙型固溶體中,較小的溶質原子進入晶格空隙。

依固溶體形成的常見判準,相關因素包括原子尺寸、晶體結構、電負度與價數。題目列出的因素中,原子尺寸、晶體結構與價數符合判準;電負度未列出。

解題方法

逐項判斷每個因素是否與固溶體形成有關:

  • Atomic size(原子尺寸):尺寸差異影響溶質原子能否取代溶劑原子,或進入晶格空隙。
  • Crystal structure(晶體結構):晶體結構決定晶格排列及間隙空隙的大小與位置。
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第 50 題

Considering nitrogen diffusion in steel with an intrinsic nitrogen concentration of 0.02 wt%0.02\ \mathrm{wt\%} while the surface concentration of nitrogen is maintained at 0.2 wt%0.2\ \mathrm{wt\%}, determine the diffusion time required to reach a nitrogen content of 0.1 wt%0.1\ \mathrm{wt\%} at a position 0.47 mm0.47\ \mathrm{mm} below the surface under 500∘C500^\circ\mathrm{C}. The diffusion coefficient for nitrogen in iron at 500∘C500^\circ\mathrm{C} is 2.1×10−12 m2/s2.1\times10^{-12}\ \mathrm{m^2/s}. The tabulation of the error function is included as reference.

xxerf⁡(x)\operatorname{erf}(x)
0000
0.020.020.0225645750.022564575
0.040.040.0451111060.045111106
0.060.060.0676215940.067621594
0.080.080.0900781260.090078126
0.10.10.1124629160.112462916
0.20.20.2227025890.222702589
0.30.30.3286267590.328626759
0.40.40.4283923550.428392355
0.50.50.5204998780.520499878
0.60.60.6038560910.603856091
0.70.70.6778011940.677801194
0.80.80.7421009650.742100965
0.90.90.7969082120.796908212
110.8427007930.842700793

(A) 30 hr
(B) 25 hr
(C) 20 hr
(D) 15 hr

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核心觀念

本題考查固體中的非穩態擴散。鋼材可視為半無限體,初始氮濃度均勻為 C0C_0,且表面濃度維持固定為 CsC_s。此情況使用菲克第二定律的誤差函數解:

Cs−CxCs−C0=erf⁡(x2Dt)\frac{C_s-C_x}{C_s-C_0} = \operatorname{erf}\left(\frac{x}{2\sqrt{Dt}}\right)

其中 CxC_x 是距表面 xx 處、經過時間 tt 後的濃度,DD 是擴散係數。先由濃度求出誤差函數的自變數,再代入公式求時間。

解題方法

已知:

C0=0.02 wt%,Cs=0.2 wt%,Cx=0.1 wt%C_0=0.02\ \mathrm{wt\%},\qquad C_s=0.2\ \mathrm{wt\%},\qquad C_x=0.1\ \mathrm{wt\%}

由濃度比求誤差函數值:

erf⁡(x2Dt)=Cs−CxCs−C0=0.2−0.10.2−0.02=0.10.18≈0.5556\operatorname{erf}\left(\frac{x}{2\sqrt{Dt}}\right) = \frac{C_s-C_x}{C_s-C_0} = \frac{0.2-0.1}{0.2-0.02} = \frac{0.1}{0.18} \approx 0.5556

查表可知 erf⁡(0.5)=0.520500\operatorname{erf}(0.5)=0.520500、erf⁡(0.6)=0.603856\operatorname{erf}(0.6)=0.603856。在線性內插下:

z≈0.5+0.5556−0.5205000.603856−0.520500(0.6−0.5)≈0.542z\approx 0.5+ \frac{0.5556-0.520500}{0.603856-0.520500}(0.6-0.5) \approx 0.542

因此:

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