113 年 國立中正大學機械工程學系光機電整合工程碩士班《半導體元件物理》
📄 試題原卷 免費註冊後即可對照原始考卷 PDF免費註冊
第 1 題50 分
- (50%)
Please plot out the properties of the pn junctions.
(a) Carrier concentrations (10%)
(b) Net space charge density (10%)
(c) The electric field across the pn junction (10%)
(d) The potential V(x) across the device (10%)
(e) Hole and electron potential energy (PE) across the pn junction (10%)
🖼️【此處有附圖,請對照原卷】
圖示說明:
- 上半部顯示 p 型半導體與 n 型半導體接合處的原子與載子分佈,包含 B(受主雜質離子)、h⁺(電洞)、As⁺(施主雜質離子)、e⁻(電子)。
- 中間部分顯示冶金接面 (Metallurgical junction) 與空間電荷區 (Space charge region),以及中性 p 型區 (Neutral p-region)、中性 n 型區 (Neutral n-region)。
- 下半部顯示載子濃度 log(n) 與 log(p) 相對於位置 x 的圖形,標示出 、、、。
- 右側顯示空間電荷區的範圍。
- 題目要求繪製 (a) 載子濃度、(b) 淨空間電荷密度、(c) 電場、(d) 電位、(e) 電位能隨位置 x 的變化圖。
🖼️ 本題含圖表,以下為原卷對應頁面:
登入後即可作答並保存紀錄。
這一題的完整詳解
此題主要在考察對 p-n 接面在平衡狀態下之各種物理參數的理解與繪製能力,包含載子濃度、空間電荷、電場、電位以及載子電位能的分佈。
核心觀念:在 p-n 接面平衡時,由於濃度差驅動的擴散作用與內建電場驅動的漂移作用達成平衡,形成空間電荷區,並產生內建電位。
解題步驟:
(a) 載子濃度 (Carrier concentrations)
- 核心觀念: 在平衡狀態下,p 型區的少數載子(電子)濃度極低,接近本質濃度 ;n 型區的少數載子(電洞)濃度也極低,接近 。多數載子濃度則由摻雜濃度決定,p 型區以電洞為主,n 型區以電子為主。在空間電荷區內,由於載子擴散至對側並複合,多數載子濃度會顯著下降,接近 。
- 繪製:
- 在 p 型區():電洞濃度 (遠大於 ),電子濃度 (遠小於 )。
- 在 n 型區():電子濃度 (遠大於 ),電洞濃度 (遠小於 )。
- 在空間電荷區():電子和電洞濃度都接近 。
- 圖形顯示電子濃度在 p 型區很高,在空間電荷區下降至 ,然後在 n 型區再次升高到 。電洞濃度則相反,在 n 型區很高,在空間電荷區下降至 ,然後在 p 型區再次升高到 。
- 圖示中 log(n) 和 log(p) 相對於 x 的圖已給出,可依此推斷。在 p 型區 log(p) 高,log(n) 低;在 n 型區 log(n) 高,log(p) 低。空間電荷區兩者都較低。
(b) 淨空間電荷密度 (Net space charge density)
- 核心觀念: 空間電荷區是由未補償的固定離子電荷構成。在 p 型區,主要為帶負電的受主離子 ;在 n 型區,主要為帶正電的施主離子 。在中性區,離子電荷被導電載子(電洞或電子)所補償。
- 繪製:
- 在 p 型區中性區():淨電荷密度 。
- 在 n 型區中性區():淨電荷密度 。
- 在空間電荷區():
- 在 p 型區側():淨電荷密度 (帶負電)。
- 在 n 型區側():淨電荷密度 (帶正電)。
- 圖形顯示在空間電荷區內,左側為負值,右側為正值,兩側的絕對值大小大致相同(若為對稱接面)。
(c) 電場 (The electric field across the pn junction)
- 核心觀念: 電場是由空間電荷區的淨電荷產生。根據高斯定律,電場與電荷密度的積分成正比。電場方向由正電荷指向負電荷。
- 繪製:
- 在 p 型區中性區():電場 。
- 在 n 型區中性區():電場 。
第 2 題20 分
- (20%)
The lattice constant of a simple cubic lattice is .
(a) Sketch the following planes: (i) (100), (ii) (111), (iii) (110), and (iv) (123). (12%)
(b) The lattice constant of a simple cubic primitive cell is 10 Å. Determine the distance between the nearest parallel (a) (100) and (b) (111) planes. (8%)
🖼️ 本題含圖表,以下為原卷對應頁面:
登入後即可作答並保存紀錄。
這一題的完整詳解
此題主要考察晶體學中的指數表示法(密勒指數)以及平面間距的計算。
核心觀念:
- 密勒指數 (Miller Indices): 用來表示晶體中的平面和方向。平面指數 (hkl) 表示與三個晶軸相交的截距倒數,經過化簡後得到。
- 晶面繪製: 在簡單立方晶格中,根據密勒指數繪製平面。
- 平面間距 (Interplanar Spacing): 相鄰平行晶面之間的垂直距離。對於簡單立方晶格,其公式為 。
解題步驟:
(a) 繪製晶面 (Sketch the following planes)
-
核心觀念: 在簡單立方晶格(單位晶胞為立方體)中,晶軸為 x, y, z,長度均為 。繪製晶面時,需找出該平面與三個晶軸的截距,然後取倒數並化簡得到 (hkl)。
-
(i) (100) 面:
- 截距:與 x 軸交於 處,與 y 軸和 z 軸平行(截距為無限大)。
- 倒數:。
- 化簡:(1, 0, 0)。
- 繪製:此平面即為由 (100)、(010)、(001) 四個頂點構成的立方體的一個面,例如 x-y 平面。
-
(ii) (111) 面:
- 截距:與 x, y, z 三軸均交於 處。
- 倒數:。
- 化簡:(1, 1, 1)。
- 繪製:此平面通過 (100), (010), (001) 三個頂點。在立方體內形成一個三角形。
-
(iii) (110) 面:
- 截距:與 x 軸交於 處,與 y 軸交於 處,與 z 軸平行(截距為無限大)。
- 倒數:。
- 化簡:(1, 1, 0)。
- 繪製:此平面通過 (100) 和 (010) 頂點,並平行於 z 軸。在立方體內形成一個矩形。
-
第 3 題15 分
- (15%)
The concentration of donor impurity atoms in a semiconductor is cm⁻³. Assume an electron mobility of cm²/V-s and a hole mobility of cm²/V-s.
Calculate the conductivity and resistivity of the material? (10%, 5%)
登入後即可作答並保存紀錄。
這一題的完整詳解
此題主要在考察半導體導電率與電阻率的計算,以及摻雜濃度、載子遷移率對這些參數的影響。
核心觀念:
- 導電率 (Conductivity, ): 描述材料導電能力的物理量,由自由載子濃度和載子遷移率決定。
其中 是基本電荷 ( C), 是電子濃度, 是電洞濃度, 是電子遷移率, 是電洞遷移率。 - 電阻率 (Resistivity, ): 導電率的倒數,描述材料導電的難易程度。
解題步驟:
-
給定參數:
- 施主雜質濃度 cm⁻³。
- 電子遷移率 cm²/V-s。
- 電洞遷移率 cm²/V-s。
- 基本電荷 C。
-
判斷載子濃度:
- 此半導體為 n 型,因為掺雜的是施主雜質。
- 在常溫下,對於 n 型半導體,多數載子濃度 。
- 少數載子濃度 可以通過質量作用定律計算,。通常在一般的摻雜濃度下,少數載子濃度 ,可以忽略。
- 因此,我們假設 cm⁻³,而 (相較於 n)。
第 4 題15 分
- (15%)
Please detailly explain following nouns:
(a) Schottky diode (3%)
(b) Hall effect (3%)
(c) Fermi-Dirac distribution (3%)
(d) Ohmic contacts (3%)
(e) Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor (3%)
登入後即可作答並保存紀錄。
這一題的完整詳解
此題為名詞解釋題,考察對半導體元件與物理概念的基礎知識。
(a) Schottky diode (蕭特基二極體)
- 定義: 蕭特基二極體是一種利用金屬與半導體直接接觸形成的 PN 接面(或稱金屬-半導體接面),而不是傳統的半導體 P 型與 N 型材料形成的 PN 接面。
- 特性:
- 低順向壓降 (Low Forward Voltage Drop): 由於金屬的功函數和半導體的功函數差異形成一個較低的能障(Schottky Barrier),因此順向導通時所需的電壓較低(通常 0.2-0.5V,遠低於矽 PN 接面的 0.7V)。
- 快速的開關速度 (Fast Switching Speed): 蕭特基二極體不具有 PN 接面中存在的少數載子儲存效應(minority carrier storage effect),因為其導電機制主要是多數載子(如電子),這使得它在開關時的恢復時間非常短,適合用於高頻應用。
- 反向漏電流較大 (Larger Reverse Leakage Current): 相較於 PN 接面二極體,蕭特基二極體的反向漏電流通常較大。
- 應用: 高頻整流(如電源供應器)、開關電源、混頻器、檢測器等。
(b) Hall effect (霍爾效應)
- 定義: 當電流通過置於磁場中的導體或半導體時,在垂直於電流和磁場的方向上會產生一個電位差,此現象稱為霍爾效應。
- 原理: 電流在導體或半導體中流動時,載子(電子或電洞)在磁場作用下受到勞倫茲力 () 作用,使其偏向導體/半導體的一側。這導致一側積累了負電荷(電子)或正電荷(電洞),而另一側則帶相反的電荷。這種電荷的積累產生了一個橫向電場(霍爾電場),該電場產生的電場力 () 會抵銷勞倫茲力,直到達到穩態。
- 應用:
- 判斷載子類型: 霍爾電壓的極性可以判斷材料中多數載子的類型(正電壓表示 P 型,負電壓表示 N 型)。
- 測量載子濃度: 根據霍爾係數 或 ,可以計算載子濃度。
- 測量載子遷移率: 結合導電率的測量,可以計算載子遷移率。
- 磁場感測器: 製作成霍爾感測器,用於測量磁場強度。
(c) Fermi-Dirac distribution (費米-狄拉克分佈)
- 定義: 費米-狄拉克分佈函數 描述了在熱平衡狀態下,一個電子在能量為 的能階上被佔據的機率。
- 公式:
其中:- 是能階的能量。
- 是費米能級 (Fermi level),代表了在絕對零度時電子被佔據的最高能級,或者在非絕對零度時,平均有 50% 機率被佔據的能級。
- 是波茲曼常數。
- 是絕對溫度。
- 特性:
- 在 K 時, 對於 ,以及 對於 。
- 在 K 時,當 時,。
- 對於 (遠高於費米能級),,接近 classical Boltzmann distribution。