113 年 國立中正大學機械工程學系光機電整合工程碩士班《半導體元件物理》

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第 1 題50 分

  1. (50%)
    Please plot out the properties of the pn junctions.
    (a) Carrier concentrations (10%)
    (b) Net space charge density (10%)
    (c) The electric field across the pn junction (10%)
    (d) The potential V(x) across the device (10%)
    (e) Hole and electron potential energy (PE) across the pn junction (10%)

🖼️【此處有附圖,請對照原卷】
圖示說明:

  • 上半部顯示 p 型半導體與 n 型半導體接合處的原子與載子分佈,包含 B(受主雜質離子)、h⁺(電洞)、As⁺(施主雜質離子)、e⁻(電子)。
  • 中間部分顯示冶金接面 (Metallurgical junction) 與空間電荷區 (Space charge region),以及中性 p 型區 (Neutral p-region)、中性 n 型區 (Neutral n-region)。
  • 下半部顯示載子濃度 log(n) 與 log(p) 相對於位置 x 的圖形,標示出 WpoW_{po}、WnoW_{no}、W0W_0、x=0x=0。
  • 右側顯示空間電荷區的範圍。
  • 題目要求繪製 (a) 載子濃度、(b) 淨空間電荷密度、(c) 電場、(d) 電位、(e) 電位能隨位置 x 的變化圖。
🖼️ 本題含圖表,以下為原卷對應頁面:
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此題主要在考察對 p-n 接面在平衡狀態下之各種物理參數的理解與繪製能力,包含載子濃度、空間電荷、電場、電位以及載子電位能的分佈。

核心觀念:在 p-n 接面平衡時,由於濃度差驅動的擴散作用與內建電場驅動的漂移作用達成平衡,形成空間電荷區,並產生內建電位。

解題步驟:

(a) 載子濃度 (Carrier concentrations)

  • 核心觀念: 在平衡狀態下,p 型區的少數載子(電子)濃度極低,接近本質濃度 nin_i;n 型區的少數載子(電洞)濃度也極低,接近 nin_i。多數載子濃度則由摻雜濃度決定,p 型區以電洞為主,n 型區以電子為主。在空間電荷區內,由於載子擴散至對側並複合,多數載子濃度會顯著下降,接近 nin_i。
  • 繪製:
    • 在 p 型區(x<0x < 0):電洞濃度 p(x)≈NAp(x) \approx N_A(遠大於 nin_i),電子濃度 n(x)≈ni2/NAn(x) \approx n_i^2 / N_A(遠小於 nin_i)。
    • 在 n 型區(x>0x > 0):電子濃度 n(x)≈NDn(x) \approx N_D(遠大於 nin_i),電洞濃度 p(x)≈ni2/NDp(x) \approx n_i^2 / N_D(遠小於 nin_i)。
    • 在空間電荷區(−Wp<x<Wn-W_p < x < W_n):電子和電洞濃度都接近 nin_i。
    • 圖形顯示電子濃度在 p 型區很高,在空間電荷區下降至 nin_i,然後在 n 型區再次升高到 NDN_D。電洞濃度則相反,在 n 型區很高,在空間電荷區下降至 nin_i,然後在 p 型區再次升高到 NAN_A。
    • 圖示中 log(n) 和 log(p) 相對於 x 的圖已給出,可依此推斷。在 p 型區 log(p) 高,log(n) 低;在 n 型區 log(n) 高,log(p) 低。空間電荷區兩者都較低。

(b) 淨空間電荷密度 (Net space charge density)

  • 核心觀念: 空間電荷區是由未補償的固定離子電荷構成。在 p 型區,主要為帶負電的受主離子 A−A^-;在 n 型區,主要為帶正電的施主離子 D+D^+。在中性區,離子電荷被導電載子(電洞或電子)所補償。
  • 繪製:
    • 在 p 型區中性區(x<−Wpx < -W_p):淨電荷密度 ρ(x)≈0\rho(x) \approx 0。
    • 在 n 型區中性區(x>Wnx > W_n):淨電荷密度 ρ(x)≈0\rho(x) \approx 0。
    • 在空間電荷區(−Wp<x<Wn-W_p < x < W_n):
      • 在 p 型區側(−Wp<x<0-W_p < x < 0):淨電荷密度 ρ(x)≈−qNA\rho(x) \approx -qN_A(帶負電)。
      • 在 n 型區側(0<x<Wn0 < x < W_n):淨電荷密度 ρ(x)≈+qND\rho(x) \approx +qN_D(帶正電)。
    • 圖形顯示在空間電荷區內,左側為負值,右側為正值,兩側的絕對值大小大致相同(若為對稱接面)。

(c) 電場 (The electric field across the pn junction)

  • 核心觀念: 電場是由空間電荷區的淨電荷產生。根據高斯定律,電場與電荷密度的積分成正比。電場方向由正電荷指向負電荷。
  • 繪製:
    • 在 p 型區中性區(x<−Wpx < -W_p):電場 E(x)≈0E(x) \approx 0。
    • 在 n 型區中性區(x>Wnx > W_n):電場 E(x)≈0E(x) \approx 0。
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第 2 題20 分

  1. (20%)
    The lattice constant of a simple cubic lattice is a0a_0.
    (a) Sketch the following planes: (i) (100), (ii) (111), (iii) (110), and (iv) (123). (12%)
    (b) The lattice constant of a simple cubic primitive cell is 10 Å. Determine the distance between the nearest parallel (a) (100) and (b) (111) planes. (8%)
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原卷第 4 頁

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此題主要考察晶體學中的指數表示法(密勒指數)以及平面間距的計算。

核心觀念:

  1. 密勒指數 (Miller Indices): 用來表示晶體中的平面和方向。平面指數 (hkl) 表示與三個晶軸相交的截距倒數,經過化簡後得到。
  2. 晶面繪製: 在簡單立方晶格中,根據密勒指數繪製平面。
  3. 平面間距 (Interplanar Spacing): 相鄰平行晶面之間的垂直距離。對於簡單立方晶格,其公式為 dhkl=a0h2+k2+l2d_{hkl} = \frac{a_0}{\sqrt{h^2 + k^2 + l^2}}。

解題步驟:

(a) 繪製晶面 (Sketch the following planes)

  • 核心觀念: 在簡單立方晶格(單位晶胞為立方體)中,晶軸為 x, y, z,長度均為 a0a_0。繪製晶面時,需找出該平面與三個晶軸的截距,然後取倒數並化簡得到 (hkl)。

    • (i) (100) 面:

      • 截距:與 x 軸交於 a0a_0 處,與 y 軸和 z 軸平行(截距為無限大)。
      • 倒數:1/a0,1/∞,1/∞1/a_0, 1/\infty, 1/\infty。
      • 化簡:(1, 0, 0)。
      • 繪製:此平面即為由 (100)、(010)、(001) 四個頂點構成的立方體的一個面,例如 x-y 平面。
    • (ii) (111) 面:

      • 截距:與 x, y, z 三軸均交於 a0a_0 處。
      • 倒數:1/a0,1/a0,1/a01/a_0, 1/a_0, 1/a_0。
      • 化簡:(1, 1, 1)。
      • 繪製:此平面通過 (100), (010), (001) 三個頂點。在立方體內形成一個三角形。
    • (iii) (110) 面:

      • 截距:與 x 軸交於 a0a_0 處,與 y 軸交於 a0a_0 處,與 z 軸平行(截距為無限大)。
      • 倒數:1/a0,1/a0,1/∞1/a_0, 1/a_0, 1/\infty。
      • 化簡:(1, 1, 0)。
      • 繪製:此平面通過 (100) 和 (010) 頂點,並平行於 z 軸。在立方體內形成一個矩形。
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第 3 題15 分

  1. (15%)
    The concentration of donor impurity atoms in a semiconductor is Nd=1015N_d = 10^{15} cm⁻³. Assume an electron mobility of μn=1500\mu_n = 1500 cm²/V-s and a hole mobility of μp=500\mu_p = 500 cm²/V-s.
    Calculate the conductivity and resistivity of the material? (10%, 5%)

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此題主要在考察半導體導電率與電阻率的計算,以及摻雜濃度、載子遷移率對這些參數的影響。

核心觀念:

  1. 導電率 (Conductivity, σ\sigma): 描述材料導電能力的物理量,由自由載子濃度和載子遷移率決定。
    σ=q(nμn+pμp)\sigma = q(n\mu_n + p\mu_p)
    其中 qq 是基本電荷 (1.602×10−191.602 \times 10^{-19} C),nn 是電子濃度,pp 是電洞濃度,μn\mu_n 是電子遷移率,μp\mu_p 是電洞遷移率。
  2. 電阻率 (Resistivity, ρ\rho): 導電率的倒數,描述材料導電的難易程度。
    ρ=1σ\rho = \frac{1}{\sigma}

解題步驟:

  • 給定參數:

    • 施主雜質濃度 Nd=1015N_d = 10^{15} cm⁻³。
    • 電子遷移率 μn=1500\mu_n = 1500 cm²/V-s。
    • 電洞遷移率 μp=500\mu_p = 500 cm²/V-s。
    • 基本電荷 q=1.602×10−19q = 1.602 \times 10^{-19} C。
  • 判斷載子濃度:

    • 此半導體為 n 型,因為掺雜的是施主雜質。
    • 在常溫下,對於 n 型半導體,多數載子濃度 n≈Ndn \approx N_d。
    • 少數載子濃度 pp 可以通過質量作用定律計算,n⋅p=ni2n \cdot p = n_i^2。通常在一般的摻雜濃度下,少數載子濃度 p≪np \ll n,可以忽略。
    • 因此,我們假設 n≈Nd=1015n \approx N_d = 10^{15} cm⁻³,而 p≈0p \approx 0(相較於 n)。
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第 4 題15 分

  1. (15%)
    Please detailly explain following nouns:
    (a) Schottky diode (3%)
    (b) Hall effect (3%)
    (c) Fermi-Dirac distribution (3%)
    (d) Ohmic contacts (3%)
    (e) Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor (3%)

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此題為名詞解釋題,考察對半導體元件與物理概念的基礎知識。

(a) Schottky diode (蕭特基二極體)

  • 定義: 蕭特基二極體是一種利用金屬與半導體直接接觸形成的 PN 接面(或稱金屬-半導體接面),而不是傳統的半導體 P 型與 N 型材料形成的 PN 接面。
  • 特性:
    • 低順向壓降 (Low Forward Voltage Drop): 由於金屬的功函數和半導體的功函數差異形成一個較低的能障(Schottky Barrier),因此順向導通時所需的電壓較低(通常 0.2-0.5V,遠低於矽 PN 接面的 0.7V)。
    • 快速的開關速度 (Fast Switching Speed): 蕭特基二極體不具有 PN 接面中存在的少數載子儲存效應(minority carrier storage effect),因為其導電機制主要是多數載子(如電子),這使得它在開關時的恢復時間非常短,適合用於高頻應用。
    • 反向漏電流較大 (Larger Reverse Leakage Current): 相較於 PN 接面二極體,蕭特基二極體的反向漏電流通常較大。
  • 應用: 高頻整流(如電源供應器)、開關電源、混頻器、檢測器等。

(b) Hall effect (霍爾效應)

  • 定義: 當電流通過置於磁場中的導體或半導體時,在垂直於電流和磁場的方向上會產生一個電位差,此現象稱為霍爾效應。
  • 原理: 電流在導體或半導體中流動時,載子(電子或電洞)在磁場作用下受到勞倫茲力 (FL=q(v⃗×B⃗)F_L = q(\vec{v} \times \vec{B})) 作用,使其偏向導體/半導體的一側。這導致一側積累了負電荷(電子)或正電荷(電洞),而另一側則帶相反的電荷。這種電荷的積累產生了一個橫向電場(霍爾電場),該電場產生的電場力 (FE=qEHF_E = qE_H) 會抵銷勞倫茲力,直到達到穩態。
  • 應用:
    • 判斷載子類型: 霍爾電壓的極性可以判斷材料中多數載子的類型(正電壓表示 P 型,負電壓表示 N 型)。
    • 測量載子濃度: 根據霍爾係數 RH=1/(nq)R_H = 1/(nq) 或 1/(pq)1/(pq),可以計算載子濃度。
    • 測量載子遷移率: 結合導電率的測量,可以計算載子遷移率。
    • 磁場感測器: 製作成霍爾感測器,用於測量磁場強度。

(c) Fermi-Dirac distribution (費米-狄拉克分佈)

  • 定義: 費米-狄拉克分佈函數 f(E)f(E) 描述了在熱平衡狀態下,一個電子在能量為 EE 的能階上被佔據的機率。
  • 公式:
    f(E)=1e(E−EF)/(kBT)+1f(E) = \frac{1}{e^{(E - E_F) / (k_B T)} + 1}
    其中:
    • EE 是能階的能量。
    • EFE_F 是費米能級 (Fermi level),代表了在絕對零度時電子被佔據的最高能級,或者在非絕對零度時,平均有 50% 機率被佔據的能級。
    • kBk_B 是波茲曼常數。
    • TT 是絕對溫度。
  • 特性:
    • 在 T=0T=0 K 時,f(E)=1f(E) = 1 對於 E<EFE < E_F,以及 f(E)=0f(E) = 0 對於 E>EFE > E_F。
    • 在 T>0T>0 K 時,當 E=EFE = E_F 時,f(E)=1/2f(E) = 1/2。
    • 對於 E≫EFE \gg E_F (遠高於費米能級),f(E)≈e−(E−EF)/(kBT)f(E) \approx e^{-(E - E_F) / (k_B T)},接近 classical Boltzmann distribution。
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